中古 VARIAN EHP-500 #9005445 を販売中

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ID: 9005445
Ion Implanter, 8" Software Version : V12.15 rev D Wafer Clamp: e-clamp Gas Box: HP type Gas 1: BF3 HP Gas 2: Ph3 HP Gas 3: AsH3 HP Gas 4: Ar HP Main monitor: CRT touch screen Service monitor: CRT touch screen Traveling Faraday Type TVL New style Auto Decel: Yes Source head: Bernas Hall probe: Gauss probe Pumps: Source Turbo Pump – Seiko Seiki STP-1000C Beamline Turbo Pump – Both Seiko Seiki STP-1000C & STP-300 Endstation Cryo Pump Chamber – V-250 Load Lock – V-300 Source Dry Pump – Edwards IQDP-80 Endstation Dry Pump – Edwards QDP-80 Differential Seals – IQDP80 + Blower Cryo Compressor - 9600 Installed, can be demonstrated 1997 vintage.
VARIAN EHP-500イオンインプランターは、最新のインプラント工学と物理学を念頭に設計された、精密設計された高度な統合機器です。これは、イオンを基板に埋め込む必要がある研究者や産業技術者にとって費用対効果の高いツールです。VARIAN EHP500を使用すると、注入プロセス中にイオン電流、線量率、およびその他のパラメータの驚くほど正確な注入、監視および制御が得られます。EHP 500は、安定したイオンビームとイオン光学系を生成し、必要な深さと正しい角度でそれを導くソースで構成されています。測定範囲内の電流を確実かつ正確に調整するビーム電流制御ユニットを備えています。この機械は、残留ガスによって散乱された総イオン電流と、プロセス中の任意の時点で監視できる他のパラメータを測定する残留ガス分析装置を備えています。VARIAN EHP 500には、データ監視用の統合されたコンピュータインターフェースが搭載されているほか、さまざまなパラメータを制御および設定できるソフトウェアも付属しています。このソフトウェアには、履歴ロギング、線量速度、電流密度制御、パルス幅変調、統合コマンドコントロールなどの機能が含まれます。EHP500は、緊張したリラックスしたチャネルイオン、チャネルおよび通常のシリコンイオン注入、フォトレジストおよびバッキング構造、ならびにp型およびエピタキシャル基板を含むさまざまなイオン源および基板と互換性があります。このツールは、Si、 Ge、 C、 Sn、 COなどの幅広いインプラント媒体も備えています。EHP-500はユーザーフレンドリーおよびオペレータに優しいです。人間工学に基づいて設計されており、オペレータの疲労を軽減し、直感的なインターフェイスにより効率を向上させます。資産も信じられないほど堅牢です。それは高温を含む広い条件を、扱うことができ機械衝撃および振動に対して抵抗力があります。VARIAN EHP-500は、信頼性が高く使いやすい最先端の汎用性と正確なインプラント・モデルです。それは研究および企業のイオン注入の適用の広い範囲に完全に適しています。堅牢で高性能なイオンインプランター&モニターが必要な方に最適です。
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