中古 VARIAN E500 #9206611 を販売中
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ID: 9206611
ヴィンテージ: 1993
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left, right
No CVCF Option
System vacuum:
Ion source chamber
Beamline chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump & (3) controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beamline TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beamline TMPC
CTI / 250 / Endstation C/P
CTI / 8500 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / 5020+boost / End station dry
Process gas:
AsH3: HP Type, VCR 1/2"
PH3: HP Type, VCR 1/2"
BF3: HP Type, VCR 3/8"
Ar(N2): HP Type, CGA 580 (Non gas line)
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~70 keV
Acceleration power supply: 0 keV ~ 180 keV
Power supplies:
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 70kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply (decel): 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator controller: -30kV, 10mA
Mirror: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5 kV, 5 mA
Scan trek power supply: 30 kV
Isolation transformer assy: 70 kV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
No beam energy probe
No 2 step beam reduser
No auto deceleration
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 psi
N2: 40~150 psi
Cooling water: 60~150 psi
Temperature: 4~21°C
Power: 208VAC, 3-Phase, 5 Wires, 43.2kVA, 120FLA
1993 vintage.
VARIAN E500は、半導体デバイス製造、プラズマエッチング、イオン注入プロセスで使用するために設計されたイオンインプラントおよびモニターです。これは、デバイスレベル制御と高エネルギー注入アプリケーションを実現するための汎用性の高いツールです。さらに、VARIAN E 500はさまざまなプロセスと制御機能を備えており、さまざまな種類のインプラント工程で使用することができます。このシステムは、特許取得済みのトリプルジャンクション設計を使用して、注入用のイオンを正確に指示します。移植されるサンプルの正確な位置決めのための二軸ステージ設計を備えています。これは、機械式エンコーダとオンボードコンピュータを使用して達成され、機械は着床のための適切な領域に正確にサンプルを見つけることができます。E-500はヒ素、ホウ素、リン、アンチモンの移植が可能です。また、高エネルギーの埋め込み構造にリンを埋め込むために使用することができます。E500は幅広い用量を提供することができるので、製造業者はすべての種の着床パラメータを設定し、幅広いデータを追跡することができます。注入プロセスを監視するために特別に設計されており、サンプルの誤動作や欠陥を検出する機能を備えています。これは、そうでなければ、完成品に取り返しのつかない損傷を引き起こす可能性のある損傷を回避するのに役立ちます。また、各注入サイクル中にチャンバー内の温度を監視し、必要に応じてそれに応じて調整することができます。VARIAN E-500は、ユーザーがどこからでもシステムを監視できるように、革新的なリモートアクセス機能を備えています。この機能は、着床中に物理的に機械にいることができない人に役立ちます。この機能を通じて、手動入力をリモートで行うことができ、移植プロセス中に収集されたデータにリモートでアクセスすることができます。全体的に、E 500は、高エネルギー確立され、確立されたプロセスのための強力で信頼性の高い移植および制御ツールです。これは、プロセスと制御機能の広い範囲だけでなく、リモートアクセス機能を提供しています。これにより、VARIAN E500半導体デバイスの製造、プラズマエッチング、イオン注入プロセスに最適なツールとなります。
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