中古 VARIAN E220HP #9259892 を販売中
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ID: 9259892
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1996
Ion implanter, 8"
Gas cabinet:
Gas cylinder volume (liter): 1.0 Liter
Internal Ar
AsH3 Cylinder type: Vaporizer
PH3 Cylinder type: High pressure
BF3 Cylinder type: High pressure
Gas line purge
Vaporizer P.S
Source:
Source head type: Bernas
No reducer type 2 step
Beam line:
Scan generator: 20 kV
Mirror: 30 kV
No automatic graded decel relay and P/S
No hall probe
End station:
Old platform
M-Clamp
Three light signal tower
VESDA Smoke detectors
Service monitor
No control computer CVCF
No video viewing of wafer loading
Accessory:
STP-1000C Source turbo pump
STP-300C Analyzer turbo pump
STP-1000 Beam line turbo pump
QDP80 Source rough pump
QDP40 Stage pump
QMP250/QDP40 End station pump
SUZUKI SHOKAN A250F Target cryo pump
SUZUKI SHOKAN A100L Load lock pump
SUZUKI SHOKAN C300 Cryo compressor
No remote PD
Vaporizer power supply missing
1996 vintage.
VARIAN E220HPは、半導体材料に精密イオンを埋め込むために設計された高精度イオンインプラントおよびモニターです。汎用性の高い自動化された装置で、幅広いインプラント用途に使用できます。このシステムには、効率と精度を最大限に高める多数の機能が搭載されています。VARIAN E220 HPはイオンソース、アクセラレータ、ビーム制御ユニット、プロセスチャンバーで構成されています。イオン源は移植されたイオンを精密なエネルギーに作り出し、加速します。イオン源には、真空およびクライオポンピングシステム、および最適な注入性能のための温度コントローラが装備されています。加速器は基質に高エネルギーのイオンのビームを提供するように設計されています。基板に埋め込む前にビームエネルギーをさらに下流にチューニングするためにも使用できます。ビーム制御機械はビーム角度および強度の精密な制御のために設計されています。このツールはまた、注入時にイオン抽出とビーム角を正確に調整できる抽出器を備えています。プロセスチャンバーはステンレススチールエンクロージャで構成されており、汚染から優れた保護を提供し、プロセス条件を正確に制御できます。このアセットには高度に自動化されたユーザーインターフェイスがあり、ユーザーは複雑な埋め込みプロセスを迅速かつ簡単に設定できます。イオン元素組成、イオンエネルギー、ビーム角などのパラメータは、すべてユーザーインターフェイスから直接調整可能です。さらに、このモデルは外部コンピュータを介して他のシステムと統合することができます。これにより、複数の移植プロセスに対応する際の柔軟性と精度が向上します。E 220 HPは、最高の信頼性と一貫したパフォーマンスを実現するよう設計されています。産業用途で発生する温度や湿度の変化など、厳しい環境条件に耐えるように設計されています。これにより、過酷な労働条件下でも機器が中断することなく動作することが保証されます。さらに、システムには、ユニット障害が発生する前に検出および識別できる多数の診断および監視システムが装備されています。E220 HPは、半導体材料へのイオンの正確な埋め込みを必要とする人に最適です。高度な制御およびオートメーションシステムにより、最高の精度と効率を実現し、ユーザーは生産性を最大限に高めることができます。その信頼性の高い性能により、幅広い産業用途に適しています。
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