中古 VARIAN E220 #9361402 を販売中

ID: 9361402
ウェーハサイズ: 6"
Medium current ion implanter, 6" Signal tower: Front panel Single wafer E-Chuck Loadlock: Left / Right VAT Gate valve missing Vacuum: Ion source chamber Beam line chamber End station chamber Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump (3) Controllers E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Turbo pump Maker / Model / Class EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC CTI / 250F / End station C/P CTI / 9600 / Compressor VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry Process gas: Type / Gas / CGA Outlet HP / AsH3 / CGA 577 HP / PH3 / CGA 578 HP / BF3 / CGA 579 HP / Ar (N2) / CGA 580 High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~40 keV Acceleration power supply: 0 keV~180 keV Power supplies (Assembly): Filament Vaporizer Source magnet Extraction Extraction suppression Analyzer magnet Mirror power supply (Decel) (2) Quadrupole magnets Scan generator controller Mirror Dipole lens magnet Acceleration Acceleration suppression Scan trek power supply Isolation transformer assembly Mirror read back assembly: 60 keV Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left and right elevator Dose integrator DI Temperature monitor Options: Beam reducer Decel Gas box type: HP Source type: Bernas Faraday type: VARIAN Scanning faraday Utilities: Air: 100~150 PSI N2: 40~150 PSI Cooling water: 60~150 PSI Temperature: 4°C~21°C Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220は、要求の厳しいイオン注入アプリケーション用に設計された強力なイオン注入器および自動モニターです。その使いやすい機能とシステムにより、埋め込みプロセスパラメータを正確に制御でき、基板の高品質とスループットを実現します。この装置は、シングルイオンまたはマルチイオン、可変電圧、外部ビーム設定、プラズマシート、その他の洗練された機能など、さまざまなプロセス設定と機能を提供します。その洗練された硬化ツールは、基材を損傷することなく、高濃度で基板にドーパントを埋め込むように設計されています。このシステムは、汎用性の高い着床プロセスも提供しており、幅広い材料を扱うことができます。イオン電流密度とエネルギーを測定する高密度センサを内蔵しています。このセンサは、基板内のイオン密度を検出して所望の着床率を維持することができます。VARIAN E-220は、基板の理想的な条件を確保するために、効率的な環境制御を備えています。高度な環境制御により、着床時のエネルギー使用量を削減し、結果の精度を向上させます。また、直流電流を利用したイオン源を採用しているため、ガスの形成や汚染のリスクを低減できます。このソースには、基板温度の安定化に役立つ高効率のフォーカシングマシンが含まれています。高度なビームライン制御により、E 220は信頼性の高い埋め込みプロセスに最適です。静電式デフレクターやイオンガイドなどの特殊ハードウェアは、ビームを正確に制御し、注入の均一性を確保します。自動化されたビームライン制御は、必要に応じてビームサイズと形状を自動的に調整し、所望のイオンを正確かつ効果的に埋め込むことができます。このツールには、プロセスをユーザーフレンドリーで便利にする強力なソフトウェアが付属しています。データロギング、高度な診断、およびその他の監視機能により、インプラントの進捗状況を容易に追跡および分析できます。ソフトウェアはまた、高度な統計分析と検証可能な記録をサポートしています。VARIAN E 220は、高度なイオン注入ニーズに対応する汎用性と信頼性の高い資産です。幅広い機能と機能を備えており、さまざまな材料を含む要求の厳しい埋め込み要件に取り組むのに適しています。その洗練されたハードウェアとソフトウェアは、高精度レベルでさまざまな結果を達成するための理想的な選択肢です。
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