中古 VARIAN E220 #9361402 を販売中
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ID: 9361402
ウェーハサイズ: 6"
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower: Front panel
Single wafer
E-Chuck
Loadlock: Left / Right
VAT Gate valve missing
Vacuum:
Ion source chamber
Beam line chamber
End station chamber
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump
(3) Controllers
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Turbo pump
Maker / Model / Class
EDWARDS / QDP80 / Terminal dry pump
PFEIFFER / TPH 1600 / Source TMP
PFEIFFER / TCP 5000 / Source TMPC
PFEIFFER / TPH 510 / Resol TMP
PFEIFFER / TCP 310 / Resol TMPC
PFEIFFER / TPH 240 / Beam line TMP
PFEIFFER / TCP 121 / Beam line TMPC
CTI / 250F / End station C/P
CTI / 9600 / Compressor
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMP
VARIAN / CTI100 / Loadlock TMPC
EDWARDS / QMB250 + QDP40 / End station dry
Process gas:
Type / Gas / CGA Outlet
HP / AsH3 / CGA 577
HP / PH3 / CGA 578
HP / BF3 / CGA 579
HP / Ar (N2) / CGA 580
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~40 keV
Acceleration power supply: 0 keV~180 keV
Power supplies (Assembly):
Filament
Vaporizer
Source magnet
Extraction
Extraction suppression
Analyzer magnet
Mirror power supply (Decel)
(2) Quadrupole magnets
Scan generator controller
Mirror
Dipole lens magnet
Acceleration
Acceleration suppression
Scan trek power supply
Isolation transformer assembly
Mirror read back assembly: 60 keV
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left and right elevator
Dose integrator
DI Temperature monitor
Options:
Beam reducer
Decel
Gas box type: HP
Source type: Bernas
Faraday type: VARIAN Scanning faraday
Utilities:
Air: 100~150 PSI
N2: 40~150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI
Temperature: 4°C~21°C
Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 43.2 kVA, 120 FLA.
VARIAN E220は、要求の厳しいイオン注入アプリケーション用に設計された強力なイオン注入器および自動モニターです。その使いやすい機能とシステムにより、埋め込みプロセスパラメータを正確に制御でき、基板の高品質とスループットを実現します。この装置は、シングルイオンまたはマルチイオン、可変電圧、外部ビーム設定、プラズマシート、その他の洗練された機能など、さまざまなプロセス設定と機能を提供します。その洗練された硬化ツールは、基材を損傷することなく、高濃度で基板にドーパントを埋め込むように設計されています。このシステムは、汎用性の高い着床プロセスも提供しており、幅広い材料を扱うことができます。イオン電流密度とエネルギーを測定する高密度センサを内蔵しています。このセンサは、基板内のイオン密度を検出して所望の着床率を維持することができます。VARIAN E-220は、基板の理想的な条件を確保するために、効率的な環境制御を備えています。高度な環境制御により、着床時のエネルギー使用量を削減し、結果の精度を向上させます。また、直流電流を利用したイオン源を採用しているため、ガスの形成や汚染のリスクを低減できます。このソースには、基板温度の安定化に役立つ高効率のフォーカシングマシンが含まれています。高度なビームライン制御により、E 220は信頼性の高い埋め込みプロセスに最適です。静電式デフレクターやイオンガイドなどの特殊ハードウェアは、ビームを正確に制御し、注入の均一性を確保します。自動化されたビームライン制御は、必要に応じてビームサイズと形状を自動的に調整し、所望のイオンを正確かつ効果的に埋め込むことができます。このツールには、プロセスをユーザーフレンドリーで便利にする強力なソフトウェアが付属しています。データロギング、高度な診断、およびその他の監視機能により、インプラントの進捗状況を容易に追跡および分析できます。ソフトウェアはまた、高度な統計分析と検証可能な記録をサポートしています。VARIAN E 220は、高度なイオン注入ニーズに対応する汎用性と信頼性の高い資産です。幅広い機能と機能を備えており、さまざまな材料を含む要求の厳しい埋め込み要件に取り組むのに適しています。その洗練されたハードウェアとソフトウェアは、高精度レベルでさまざまな結果を達成するための理想的な選択肢です。
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