中古 VARIAN E220 #9262460 を販売中

VARIAN E220 Ion Implanter and Monitorは、半導体ウェーハにホウ素またはリンを埋め込むために設計された高性能アプライアンスです。イオン加速器設計の最新技術を活用し、優れたプロセス制御と精度を提供します。イオン注入プロセスには、高出力、低電圧スイッチング、ビーム強度およびフォーカシングパラメータの正確な制御が必要です。VARIAN E-220は、エネルギー選択装置やビームラスタリングなど、さまざまなオプションを備えた完全にプログラム可能なモジュラーマシンです。エネルギー選択システムは、異なる運動エネルギーを持つ複数のエネルギーイオンまたはイオンを同時に埋め込むことができるP2静電スキャンユニットを備えています。ラスターマシンは、ユーザーが簡単にビームパラメータを調整し、ウェーハの表面をスキャンすることができます。ビームパラメータは、超浅い接合インプラント、または不妊率の低いイオンなど、特定の用途に合わせて調整することができます。E 220はまた、高解像度のPML500充電結合デバイスカメラツールを備えています。このアセットは位置センシティブ検出器を使用して、イオン注入プロセスを正確に監視します。カメラは、インプラントのプロファイルの変更を検出し、診断するために使用することができます。E220の制御エレクトロニクスパッケージは最新式で、さまざまなソフトウェアパラメータを利用しており、IPC （Integrated Process Control）モデルを含みます。IPC装置は、イオン注入プロセスを監視および制御するための包括的な機能セットを提供します。このシステムは加速電圧、ビーム強度、ビームラスターまたは区域および線量率を自動的に制御するのに使用することができます。VARIAN E 220にはパルスジェネレータユニットとエネルギーコントロールユニットも含まれています。パルス発生器は、イオン注入器のビーム動作の周波数と合計時間を決定する電圧方形波を生成します。エネルギー制御ユニットは、ビームエネルギーを正確に制御し、プロセス中にビームエネルギーが一定であることを保証します。全体として、イオン注入器とモニターE-220強力で信頼性の高い注入ツールです。優れたプロセス制御と精度、ならびにインプラントのプロファイルの変化を検出および診断する機能を提供します。半導体やイオン加速器設計の最新技術にとって貴重なツールです。