中古 VARIAN E220 #9230245 を販売中

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ID: 9230245
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1994
Medium current ion implanter, 6" Signal tower Production wafer: (2) Wafers (P.P+ type) Platen type: M-clamp Loadlock: Left & right (P.P+ type) CVCF Option: Interlock System vacuum: Ion source chamber: 1.1E-6T Beamline chamber: 8.5E-7T, 4.2E-7 End station chamber: 1.8E-7 Pumps: Terminal: Dry pump Turbo pump Controller E/S Chamber: Dry pump Dry pump / Booster pump Cryo pump L/L Cryo Make / Model / Description EBARA / 40x20 / Terminal dry LEYBOLD / Mag W 1300 / Source TMP LEYBOLD / Mag Drive / Source TMPC PFEIFFER / - / Resol. TMP PFEIFFER / - / Resol. TMPC PFEIFFER / TMH 520 IS / Beamline TMP PFEIFFER / - / Beamline TMPC CTI / Cryotorr / End station C/P GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Left loadlock GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Right loadlock EBARA / 40x20 / End station dry CTI / 9600 / Cryo compressor Process gas: High pressure: AsH3 PH3 Ar(N2) BF3: SDS X2 High voltage range: Extraction power supply: 0 keV~40 keV Acceleration power supply: 0 keV~180 keV Power supplies (Assembly): Arc: 300VDC, 15A Filament: 7.5VDC, 200A Source magnet: 20V, 50A Extraction: 40kV (Max:75kV), 50mA Extraction suppression: -2kV, 50mA Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A) Mirror power supply: 30kV, 2.5mA Quadrupole magnet #1: 20V, 50A Quadrupole magnet #2: 20V, 50A Scan generator: -30kV, 10mA Crucible (Vaporizer) power supply: 60kV, 1.2mA Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A) Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA) Acceleration suppression: -5kV, 5mA Controller (Assembly): Left arm servo Right arm servo Vacuum gauge Scan faraday Platen tilt servo Vertical lift orienter Uniformity Liner motor servo amp Orienter Left elevator Right elevator Dose integrator DI Temp monitor Options: Gas box type: 2-High pressure bottle, 2-SDS Insert Source type: Bernas no vaporizer Utilities: Power: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 45 kVA, 120 FLA Air: 100~150 PSI N2: 40~150 PSI Cooling water: 60~150 PSI, temp: 4~21°C 1994 vintage.
VARIAN E220は、半導体産業の薄膜製造に使用される最先端のイオンインプランターモニタです。この装置は、プロセス全体の投与量の変化を監視しながら、正確なイオン配置を確保するための自己補正方法を使用しています。VARIAN E-220は、イオン源、インプランター室、投与量モニターの3つのコンポーネントを使用しています。イオン源は、サンプルに向かってビーム中のイオンを加速するために使用されます。インプランター室はサンプルを収容し、イオンがチャンバーを通過する際に電界を誘導します。この電場はイオンのエネルギーと方向を決定します。これは精密なエンジニアリング薄膜に不可欠です。用量モニターは、イオンの投与量が制御され、プロセスの所望の値を超えないように監視されることを確認するために使用されます。E 220には、イオンビームの電圧レベルを制御するための電源と、ビームの電力、位置、および強度を監視するセンサーの配列が含まれています。このシステムには、特定の範囲内のものだけが通過できるように粒子の拡散を調節する装置も装備されています。これにより、プロセスで使用される粒子が薄膜製造に必要なパラメータ内にあることを確認できます。最後に、VARIAN E 220は、簡単で直感的な操作を可能にする高度なインテリジェントコントロールユニットで設計されています。これにより、オペレータは薄膜製造に必要なパラメータを簡単に設定し、値を手動で調整することなくプロセスを綿密に監視できます。全体として、E220は、イオン配置と投与量、高度な制御機械、およびセンサーアレイの精密な制御により、設計された薄膜生産のための効果的で信頼性の高いツールです。このツールを使用すると、製造メーカーはコストと労力を最小限に抑えて薄膜を正確に設計できます。
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