中古 VARIAN E220 #9230245 を販売中
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販売された
ID: 9230245
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 1994
Medium current ion implanter, 6"
Signal tower
Production wafer: (2) Wafers (P.P+ type)
Platen type: M-clamp
Loadlock: Left & right (P.P+ type)
CVCF Option: Interlock
System vacuum:
Ion source chamber: 1.1E-6T
Beamline chamber: 8.5E-7T, 4.2E-7
End station chamber: 1.8E-7
Pumps:
Terminal:
Dry pump
Turbo pump
Controller
E/S Chamber:
Dry pump
Dry pump / Booster pump
Cryo pump
L/L Cryo
Make / Model / Description
EBARA / 40x20 / Terminal dry
LEYBOLD / Mag W 1300 / Source TMP
LEYBOLD / Mag Drive / Source TMPC
PFEIFFER / - / Resol. TMP
PFEIFFER / - / Resol. TMPC
PFEIFFER / TMH 520 IS / Beamline TMP
PFEIFFER / - / Beamline TMPC
CTI / Cryotorr / End station C/P
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Left loadlock
GEN 1 CRYOPUMP 4F / - / Right loadlock
EBARA / 40x20 / End station dry
CTI / 9600 / Cryo compressor
Process gas:
High pressure:
AsH3
PH3
Ar(N2)
BF3: SDS X2
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV~40 keV
Acceleration power supply: 0 keV~180 keV
Power supplies (Assembly):
Arc: 300VDC, 15A
Filament: 7.5VDC, 200A
Source magnet: 20V, 50A
Extraction: 40kV (Max:75kV), 50mA
Extraction suppression: -2kV, 50mA
Analyzer magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Mirror power supply: 30kV, 2.5mA
Quadrupole magnet #1: 20V, 50A
Quadrupole magnet #2: 20V, 50A
Scan generator: -30kV, 10mA
Crucible (Vaporizer) power supply: 60kV, 1.2mA
Dipole lens magnet: 40V, 125A (Max:150A)
Acceleration: 180kV, 5mA (-> 8mA)
Acceleration suppression: -5kV, 5mA
Controller (Assembly):
Left arm servo
Right arm servo
Vacuum gauge
Scan faraday
Platen tilt servo
Vertical lift orienter
Uniformity
Liner motor servo amp
Orienter
Left elevator
Right elevator
Dose integrator
DI Temp monitor
Options:
Gas box type: 2-High pressure bottle, 2-SDS Insert
Source type: Bernas no vaporizer
Utilities:
Power: 208 VAC, 3-Phase, 5-wires, 45 kVA, 120 FLA
Air: 100~150 PSI
N2: 40~150 PSI
Cooling water: 60~150 PSI, temp: 4~21°C
1994 vintage.
VARIAN E220は、半導体産業の薄膜製造に使用される最先端のイオンインプランターモニタです。この装置は、プロセス全体の投与量の変化を監視しながら、正確なイオン配置を確保するための自己補正方法を使用しています。VARIAN E-220は、イオン源、インプランター室、投与量モニターの3つのコンポーネントを使用しています。イオン源は、サンプルに向かってビーム中のイオンを加速するために使用されます。インプランター室はサンプルを収容し、イオンがチャンバーを通過する際に電界を誘導します。この電場はイオンのエネルギーと方向を決定します。これは精密なエンジニアリング薄膜に不可欠です。用量モニターは、イオンの投与量が制御され、プロセスの所望の値を超えないように監視されることを確認するために使用されます。E 220には、イオンビームの電圧レベルを制御するための電源と、ビームの電力、位置、および強度を監視するセンサーの配列が含まれています。このシステムには、特定の範囲内のものだけが通過できるように粒子の拡散を調節する装置も装備されています。これにより、プロセスで使用される粒子が薄膜製造に必要なパラメータ内にあることを確認できます。最後に、VARIAN E 220は、簡単で直感的な操作を可能にする高度なインテリジェントコントロールユニットで設計されています。これにより、オペレータは薄膜製造に必要なパラメータを簡単に設定し、値を手動で調整することなくプロセスを綿密に監視できます。全体として、E220は、イオン配置と投与量、高度な制御機械、およびセンサーアレイの精密な制御により、設計された薄膜生産のための効果的で信頼性の高いツールです。このツールを使用すると、製造メーカーはコストと労力を最小限に抑えて薄膜を正確に設計できます。
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