中古 VARIAN E19002442-2 #9037843 を販売中

VARIAN E19002442-2は最先端のイオン注入器およびモニターで、半導体および微細加工産業における多数の用途の材料にイオンを正確に埋め込むために設計されています。フィールドエミッションイオン源と4つの完全にプログラム可能な解析およびシミュレーションチャンバーを備えたインラインビームラインをベースとした自動化されたデバイスです。注入プロセスは電子的に制御されており、手動で介入する必要なく、選択したイオンを正確に注入することができます。E19002442-2には高分解能イオン光学系が搭載されており、着床時にイオンビームを正確に制御し、イオンをターゲット深度に正確に埋め込むことができます。また、イオン注入プロセスを監視するために使用されるインラインビームラインも備えています。これには、分光計、衝突フィルタ、ビームパラメータを測定し、着床時に自動解析とフィードバックを可能にする検出器が含まれます。VARIAN E19002442-2は、1から8までの要素を含む多種多様な要素とカクテルを移植することができます。それは0-4 keVの範囲上の注入のエネルギーの広い範囲を作り出すことができ、1毎秒cm2ごとの1 × 1015から5 × 1018の線量を作り出すことができます。また、E-PROMを備えた十分に設計された安全システムを備えており、事前にすべての動作パラメータを保存し、誤動作を防ぐための追加の保護機能を備えています。E19002442-2は、均一な線量分布、低電圧加速、正確なビームスキャン、ビーム電流の高精度を備えた高精度イオン注入を提供します。このデバイスは、シリコン埋め込み基板の研究開発や、MEMSおよびマイクロリソグラフィ分野のウェーハの製造に使用できます。また、VLSIおよびULSIマイクロエレクトロニクスのチップの量産にも使用されています。VARIAN E19002442-2は、強力なデジタルシステムにより、業界標準のインプラントと比較してスループットが向上します。現在、高品質な集積回路、半導体ウェーハ、その他の微細加工材料の製造など、高精度イオン注入を必要とするさまざまな用途で世界中で使用されています。