中古 VARIAN E19000432 #9192436 を販売中

VARIAN E19000432 Ion Implanter&Monitorは、イオンを半導体ウェーハに埋め込むプロセスに使用される高度なツールです。非常に信頼性が高く精密な設計で、負荷蓄積用イオンの埋め込み、半導体のドーピング制御用ドーパントの追加、高速メモリデバイスの製造など、さまざまな産業および研究用途に使用されています。E19000432は4つの電極（マグネトロンの源、チャネルの版、陽極およびコリメータ）を含んでいる多段真空装置を利用します。機械は12KVまで作り出すことができる高圧電子銃によって動力を与えられます。パワーアンプで構成される電流フロー制御システムは、マグネトロンとチャンネルプレートの隙間に生じる電圧降下を解決します。このユニットには、完全に自動化された制御ユニット、およびイオン注入環境を正確に監視する高度な監視システムも含まれています。高度なモニタリングマシンは、電流モード、線量率、イオンガン角度、加速電圧などの幅広いパラメータを検出できます。また、特別なイオンビーム源も含まれており、最大9mmのスポットサイズを投影することができ、着床プロセスの最大精度と精度を保証します。このような強力なシステムの適用により、生産歩留まりが改善され、統合デバイス製造の歩留まりが向上し、運用コストが低減されました。さらに、VARIAN E19000432は、ダウンタイムを最小限に抑え、一貫して高性能なため、長寿命でメンテナンスコストが低くなります。結論として、E19000432 Ion Implanter&Monitorは、イオンを半導体ウェーハに埋め込むプロセスに使用される高度で信頼性の高いツールです。優れたモニタリングシステム、高圧電子銃、自動化された制御ユニットを備えたこのマシンは、一貫した高性能と長い耐用年数のため、多くの業界や研究室で好まれています。