中古 VARIAN E17179550 #9002204 を販売中

VARIAN E17179550は、半導体ウェーハなどの基板に埋め込むイオンを生成するために設計された最先端のイオンインプラントおよびモニターです。25MHzのRF源、広範囲の加速電圧（50〜400KV）、同位体分離システムを備えています。高度な高解像度Faraday Cup Monitoringにより、線量率の正確な制御と調整が可能になり、ウェーハ全体を通して均一なイオン注入が可能になります。E17179550はまた、ビームのサイズとエネルギー分布を正確に測定するだけでなく、効果的なビーム診断を提供する高スループット、高品質のイオンコレクタを内蔵しています。もう1つの重要な特徴は、埋め込み前にウェーハを最適な温度に均等に加熱できる真空サンプルヒーターです。VARIAN E17179550は信頼性が高く、熱的に安定しており、低い磁場許容容量を備えています。これにより、一貫性のある結果をもたらす小規模または大規模なバッチ注入の生産に特に適しており、基板からの収率が向上し、顧客のコストが削減されます。その生産ラインへの統合は簡単であり、ユニットは適切な操作とメンテナンスのために最小限のオペレータ介入を必要とします。E17179550は信頼性が高く、高性能で洗練されたイオンインプラントとモニターで、半導体およびオプトエレクトロニクス業界のさまざまなインプラント技術に適しています。