中古 VARIAN E11117551 #293639520 を販売中

VARIAN E11117551は、半導体製造アプリケーションで使用するために設計された革新的なイオンインプラントおよびモニターです。様々な用途に正確に制御され、均一で反復可能な埋め込み条件を提供することができます。E11117551はあらゆる埋め込みプロセスおよびローディング変数のためにそれに異なった物質的なインプラントのための柔軟性を与えますカスタマイズすることができます。それは中型および高用量の注入のために設計され、現在および線量制御のための高精度を提供します。このデバイスは、5MHzの50kHz自己励起ナノパルス電子源を使用して、必要な正確な用量を得ることができ、電流は0。7から10,000 μ A、エネルギーは3から100keVの範囲です。インプラントパラメータのクランプは、ビーム電流、ビームスプレッド、ビームスポットサイズの精密監視および精密制御によって実現されます。VARIAN E11117551は、2段の液体窒素2段クライオポンプを備えた強力な真空チャンバーを備えており、チャンバーの急速なパージを可能にします。また、ロードロックを装備しており、汚染のないクリーナーを維持しながらサンプルを素早く簡単にロードできます。このデバイスは、チップレート、ビーム電流、線量分布、および総イオン線量を監視することにより、重負荷時の性能を維持することができます。インターロックの安全機能は適切な安全操作を保証し、診断モニターはリアルタイム診断を可能にします。E11117551は0。5isecの最高のレイテンシーの反復可能な、信頼できる性能のために設計されています。オペレータは、そのリアルタイムX線モニターを使用してX線位置を監視することができます。また、ビーム電流と線量を測定するために毎秒の操作の設定パーセンテージを使用して、チップレート制御を可能にします。これは注入の線量の蓄積を防ぎ、反復可能で均一な線量を提供します。このデバイスには、放射線安全のために必要なすべての保護メカニズムと、人員と機器の両方の保護が含まれており、産業環境で安全に使用できます。使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイスにより、VARIAN E11117551の操作が簡単になり、オペレータは透明で簡潔でありながら、着床セッションを監視、調整、実行することができます。E11117551には、半導体業界で際立っているさまざまな機能があります。VARIAN E11117551は、精密制御および線量測定機能から、安全機能および究極の保護まで、すべての半導体インプラントのニーズに信頼性の高い高性能な操作を提供します。