中古 VARIAN E11114360 #293670842 を販売中

VARIAN E11114360は高性能イオン注入器およびモニター装置です。半導体業界でイオンを基板に埋め込むために使用されるイオンインプランター技術の一種です。このプロセスは、半導体デバイスの製造のための正確なパターンを作成するために使用されます。このシステムは、高精度で真空を維持するように設計された高真空プラットフォームです。自動化された制御ユニットを備えており、正確で一貫した着床条件を実現します。マニュアルインプラントに比べて精度と再現性が向上し、複数の材料と構成を1回の実行で使用できます。E11114360に内部の陰極のビーム性能の監視のために設計されている多機能のモニター用具があります。これは、4ミクロン以下の測定で、多重または単一の粒子を処理することができる柔軟なビームラインアーキテクチャを含みます。パルス間ビームドライブを備えており、均一な注入深度を実現しています。このアセットは、高精度のフィールドエネルギーアナライザを備えています。それは精密な減速および測定によって非パルスイオンの正確なエネルギー分離を可能にします。また、自動スポットおよびトレース注入プロセス用の位置感度検出器を備えています。このモデルには、ターゲット基板上のイオン爆撃の監視を可能にするin-situイオン電流モニターが装備されています。これは、正確な埋め込み制御と均一性を確保するのに役立ちます。また、従来の埋め込み方法よりも信頼性と精度が向上しています。VARIAN E11114360は、ウェーハ搬送用の別デバイスも備えています。このデバイスは、真空の完全性を維持しながら、基板の自動ロードとアンロードを可能にします。これにより、手作業による介入が不要になり、プロセスの効率性とコスト効率が向上します。自動化されたコマンド、診断ルーチン、中央コンピュータからの情報を受け入れる機能など、他のデバイスからの外部入力を受信するための機器も装備されています。これは、埋め込みプロセスのより高い精度と制御を確保するのに役立ちます。全体として、E11114360は半導体デバイス製造業界で使用するために設計された強力で正確なイオンインプラント/モニターシステムです。その特徴は、高精度の真空制御、埋め込みパラメータの自動制御、柔軟なビームラインアーキテクチャ、フィールドエネルギーアナライザの遅延、位置感度検出器、およびin-situイオン電流モニタなどです。様々な生産環境での使用に適しており、着床プロセスの信頼性と精度が向上します。