中古 VARIAN E11107177 #9265198 を販売中

VARIAN E11107177 ion implanter&monitorは、主要な半導体およびシリコンウェーハ製造用に設計されたイオンインプランターの先進モデルです。集積回路、ウェハレベル包装、およびその他のマイクロ電子部品の製造に一般的に使用されています。E11107177は、高スループット、DCバイアス、0.2uAから400mAまでの中高ビーム電流を有する洪水銃インプランター装置です。1keVから50keVまでの低エネルギーで動作可能で、ソースでの線量と線量率を測定するための統合ファラデーカップを備えています。VARIAN E11107177のイオン源は、Eビームジェネレータ、Eビームカップ、コレクターアセンブリで構成されています。Eビームカップには、イオンビームエネルギーと軌道の動的操作を可能にする2つの同軸RFフィールドが取り付けられています。これは、基板の表面の特定のコンポーネントをターゲットにプロセスパラメータをチューニングすることができるので有益です。E11107177は、デュアルギロチンスリットアセンブリとユニークに設計された抽出システムを備えており、イオンビームスキャンの迅速な開始と終了を可能にし、着床時間を大幅に短縮します。さらに、最大4つのビームコントローラを装備でき、最大4つのプロセスを同時に実行できます。VARIAN E11107177インプランターには、いくつかの安全機能が統合されています。温度や圧力を監視する各種センサーや、機械の安全な機能を確保するためのガス供給ユニットを備えています。E11107177イオン注入器&モニターは、半導体業界の厳しい要件を満たすことができる包括的で汎用性の高いツールです。慣性制御ビームスキャン、ビームエネルギーの動的操作、安全機能により、幅広いイオン注入アプリケーションに広く採用されています。