中古 VARIAN E11004390 #148167 を販売中

VARIAN E11004390は、イオンインプラントおよびモニターで、効率的で信頼性が高く、費用対効果の高い材料インプラントおよびモニタリングを提供するように設計されています。このデバイスは、シリコンウェーハなどの基板上に正確に配置されたパターンや構造を作成する目的で半導体業界で使用されています。イオン注入は、イオンが高エネルギーレベルで生成され、基板に向かって加速されるプロセスです。イオンが基板の原子と衝突すると、材料に埋め込まれます。このプロセスにより、トランジスタや抵抗などのデバイスを形成するために使用できる小さな機能を作成できます。E11004390は、ホウ素、ガリウム、ヒ素、リン、インジウムなど、さまざまなイオンを埋め込むことができます。このデバイスには、ソフトウェア制御のイオン源、加速カラム、ビームマッピング装置が含まれています。イオン源は高エネルギーでイオンを生成し、加速カラムはイオンを所望のレベルに加速します。ビームマッピングシステムは、イオンが基板の正しい領域に正しく揃っていることを保証します。VARIAN E11004390には、温度、圧力、加速度など、すべてのプロセス変数をリアルタイムで監視する高度な制御ユニットが装備されています。これにより、イオン注入プロセスを正確に制御できます。E11004390には、最大6つの異なる基板に情報を保存できるデータロギングマシンも含まれています。この情報は、デバイスのパフォーマンスにアクセスし、経時的にプロセスの傾向を追跡するために使用できます。このデバイスの設計には、基板の歩留まりを改善し、業界標準となっているさまざまな機能も含まれています。これらには、不要なイオンがビームに侵入するのを防ぐためのイオン絶縁ツールと、部品をほこりや粒子から保護する完全に密閉されたエンクロージャが含まれます。全体として、VARIAN E11004390は高度で信頼性の高いイオンインプラントおよびモニターであり、優れた材料インプラントとモニタリングを提供するように特別に設計されています。このデバイスは、半導体業界に効率的で費用対効果の高いソリューションを提供し、その幅広い機能により、ユーザーは利用可能な最高品質の材料と技術にアクセスできるようになります。