中古 VARIAN E1000HP #9232479 を販売中
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ID: 9232479
ウェーハサイズ: 8"
High current implanter, 8"
Enhance type
Carriage motor type: N6 Motor
Turbo (VT250) end station pump
High-pressure gas
EDWARDS QDP80 Terminal dry pump
EDWARDS QDP80 Chamber dry pump
VARIAN V1800 Source turbo pump
(4) CTI 250F Chamber cryo pumps
Chamber cryo pump option
Main power / Frequency: 280 PD / 208 PD
Auto top utility supply
Type: PFG
Cusp source assy
Type: Hook site
Y2K Completion
Hi-voltage probe
Signal tower
Energy:
Operational: 2 ~ 200 keV
B+: 10~200 keV, As+
P+: 40~200 keV
Stability: ±10% After warm up
Dopant species: 11B+, 49BF₂+, 75As+, 31P+, 121Sb+
Implant dose accuracy:
Specification range: 5E11-5E16
Uniformity (At 7° Tilt angle): 1δ ≤0.5%
Repeatability (At 7° Tilt angle): 1δ ≤0.7%
Wafer charge neutralization:
Plasma flood gun with interlocks on current
Gas flow rate & beam spot size
Wafer handling:
Horizontal loading
Slot-to-slot integrity
Backside pick and place
(75) Wafer loads
(3) Independent vacuum load locks
Dummy wafer handling capability
Throughput:
Mechanical Limit/30 sec implant at 7° tilt
1D Profiler (Wafer per hour): 230 / 210
Wafers per disc: 18 / 13
Process angles:
Tilt: +7 / -7°
Twist: 0°-360° ±2°
Automatic recipe control
Wafer cooling: ≤100° C at 3000 Watts
Wafer breaks: 1:20,000
Particulate control:
≥0.2 um Particles
≤0.15 Added per cm² (Mean value)
Utility:
N2: 50~100 psi
Size: 3/8" NPT
Air: 90~125 psi
Size: 3/8" NPT
PCW: 40~100 psi (In/Out)
Size: 3/4" NPT
Temperature: 10~20° C
Exhaust:
Toxic: 34000
PVC, 5"
(2) PVC, 8"
NW40
Power: 460/445/415/380 V, 65/70/75/80 kVA, 3 Phase, 4 wires.
VARIAN E1000HPは、半導体業界に正確で信頼性の高いイオン注入サービスを提供するために設計されたイオンインプランター&モニターです。VARIAN E1000 HPは、SiやSiGeなどさまざまな基板を処理できる高精度で完全自動化されたシステムです。インプラント工程中のイオン線量、ビーム角、イオンエネルギーの量を高精度に制御できるように設計されています。E-1000 HPには、様々なエネルギーのイオンビームを生成することができるイオン源が装備されています。また、高圧に耐えられる真空チャンバーを備えており、様々な埋め込み技術に適しています。チャンバーには、ビームへの露出から保護された囲まれたターゲット領域が含まれており、ターゲット表面を損傷する可能性があります。また、高度なイオンビームモニターを搭載し、ビーム位置、サイズ、電流、ビームパラメータの配列を測定し、インプラント工程の最適化を可能にします。また、ユーザーがターゲット領域に基板を正確に配置することができますトップマウントポジショナーが含まれています。さらに、E1000HPはイオン加速のための低周波電力と高周波電力の両方を生成することができる信頼性の高いRFジェネレータを含んでいます。また、イオンビームサイズを一定に保つことができる高度なフォーカシングレンズを備えています。さらに、このユニットには高出力のRFソースと専用モニターが装備されており、ユーザーはビームエネルギーを制御し、イオン投与量を監視することができます。最後に、E1000 HPは信頼性の高いパフォーマンスと一貫性を提供するように設計されています。これは、放射線被ばくから保護し、インプラント工程中にオペレータの安全を確保するのに役立つ高度な安全機能を備えています。システムのセットアップと使用も簡単で、幅広いアプリケーションに最適です。
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