中古 VARIAN E1000HP #187202 を販売中

ID: 187202
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 1994
Implanter, 8" Non-SMIF Jar type S6 Motor Gas type: CGA Type:B+ SDS:AS+ SDS:P+,AR+ Beam line Turbo Pump Type: Leybold Compressor Type: CT8600(2ea) Utiliy Supply: Top Faraday: PFG Angle: Auto Soucre Assembly type: Cusp source Y2K Status Completion: Yes Below pumps are not included: 1) Terminal Dry Pump 2) Chamber Dry Pump 3) Chamber Cryo Pump Installed in clean room Powered off 1994 Vintage.
VARIAN E1000HPは、VARIAN独自のイオン注入技術を活用したイオンインプランター&モニター機器です。半導体製造におけるドーピングやマスク最適化、金属の表面改質、イオンビーム解析など、多種多様な用途に対応した高エネルギーイオンの製造・制御が可能なため、様々な産業や用途で使用されています。VARIANシリーズのイオンインプラントは、信頼性と高性能のインプラント・システムを提供するために、過去数十年にわたって設計されてきました。VARIAN E1000 HPシステムは、幅広い用途向けに設計された高電流、高エネルギーインプランターです。0。1〜300ナノアンプのビーム電流と0。01〜12 MeVのビームエネルギーで、0。1〜数十キロクロムの線量を供給することができます。最適化されたビーム光学設計により、ユーザーはビームのエネルギー分布を素早く調整でき、高度なビーム輸送ユニットは高精度の埋め込みを保証します。さらに、E-1000 HPは、統合された環状イオンコレクタと検出器アセンブリ、ならびにオペレータが最適なデバイス性能を保証するのに役立つ高度な診断プラットフォームで設計されています。E1000 HPは、信頼性が高く均一なイオン注入が可能なため、半導体業界で多用されています。また、低用量、低損傷インプラントが望まれる用途にも適しています。典型的なCMOSデバイスの効果的なドーピング制御に必要なような高精度のドーピング深度を生成することができます。また、マスクの最適化にも使用され、デバイスの重大な寸法を微調整するのに役立ちます。E1000HPは、産業環境での性能に目を向けて設計されています。統合されたオートメーションインターフェイスを備えているため、より高度なコンピュータシステムやデータ収集施設とのインタフェースが可能であり、既存の半導体製造システムに容易に実装できます。また、幅広い安全機能を備えており、お客様は機械に必要な保護レベルを享受することができます。VARIAN E-1000 HPは、多種多様な用途に適した効率的で信頼性の高い埋め込みツールであることが証明されており、今後も製造施設にとって重要な資産であることは間違いありません。
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