中古 VARIAN E1000 #191158 を販売中

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ID: 191158
Implanter, 8" Soft version: 5.90 Gas box: high pressure type Bas bottle #1: Ar - high pressure, MFC: Unit 1260 Bas bottle #2: As - high pressure, MFC: Unit 1260 Bas Bottle #3: BF3 - high pressure, MFC: Unit 1260 Bas Bottle #4: PH3 - high pressure, MFC: Unit 8160 Terminal pump ion source: Varian turbo pump: V1800A Beamline: Alcatel turbo pump: ATH1300M Terminal roughing pump: Edwards QDP80 E/S roughing pump: Edward QDP80 Cryo pump: CTI CT250F x 4ea Cryo compressor: CTI 8500 x 2ea Loadlock pump: Varian Turbo V300HT Wafer handling: bell jar type (bottom mount) Faraday type: magnetic bias ring type Wafer clamp: hook type (13 wafers) Flood gun type: PFG type Implant angle type: auto implant angle type Ion source: dual filament, cusp type Accel tube: yes HV power supply: Accel 1 and 2 Loadlock elevator: 3 sets Monitor: operation, none service monitor W/H monitor: LCD monitor Operation monitor is damaged Ribbon cable modified 1992 vintage.
VARIAN E1000は汎用性の高いイオンインプラントおよびモニターであり、材料への正確かつ正確な埋め込みを必要とするあらゆるアプリケーションに高い信頼性の高い性能を提供します。標準装備は、強力な60kVインプランタ、検出システム、高精度ビーム特性評価モジュールで構成されています。インプランターは優れた均一性と線量制御と優れたビームスポット精度を兼ね備えていますが、検出ユニットは幅広い用量にわたって動的応答を備えています。高精度ビーム特性評価モジュールは、すべてのイオンの正確な埋め込みを保証し、プロセス全体で最適な精度を保証します。VARIAN E-1000はまた、過負荷または障害による潜在的な損傷からターゲットを保護するための安全なガードマシンを備えています。E 1000には、遠隔監視と分析を可能にする包括的なデータキャプチャソフトウェアが装備されています。統合されたソフトウェアは、インプラントのリアルタイムのプロセス測定と追跡、およびツールを製品固有のデータキャプチャ資産と統合する機能を提供します。また、データキャプチャソフトウェアを使用すると、エネルギー収率を監視および調整することができます。VARIAN E 1000は、変調されたビームと変調されていない高電圧ビームの両方とも互換性があり、最も要求の厳しい埋め込みアプリケーションに最適なパフォーマンスを保証します。E-1000は、材料への正確かつ正確な埋め込みを必要とするあらゆる操作に理想的な選択肢です。強力な60kVインプランタ、検出モデル、高精度ビーム特性評価装置により、プロセス全体で最適な性能を保証します。さらに、統合されたソフトウェアデータキャプチャにより、リモート監視と分析が可能になり、変調および変調されていない高電圧ビームとの互換性が、最も要求の厳しいアプリケーションでも最適なパフォーマンスを保証します。これらの機能を安全なガードシステムと堅牢な設計と組み合わせることで、E1000はあらゆるインプラント作業に最適な選択肢であり、毎回最適なパフォーマンスを保証します。
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