中古 VARIAN DF4 #9181748 を販売中

VARIAN DF4は、半導体製造およびナノテクノロジーに使用されるイオンインプランターおよびモニターの一種です。これは、植え込みプロセス中に高精度と制御を提供します。このデバイスは、超浅い接合部の形成、イオン変位の損傷、粒界工学など、幅広い低エネルギーイオン注入アプリケーションに適しています。この装置は、デジタル信号処理（DSP）カードを内蔵したメインフレームのシャーシと、イオンソース、コリメータ、アクセラレータなどのいくつかの外部要素で構成されています。メインフレームには、より重いイオン注入のためのより高いエネルギー源を含む、いくつかの温度安定化イオン源も真空チャンバー内に収容されています。独自のアルゴリズムを使用DF4ことで、イオンビーム電流、線量、エネルギーパラメータを精密に制御できます。VARIAN DF4には、イオン注入時に優れた精度と制御を提供するいくつかの重要な機能があります。このシステムは、さまざまなモードで動作するように設計されており、可変電圧範囲があり、さまざまな材料や条件で効率的に動作することができます。この可変電圧範囲は、イオン注入プロセスにおける汚染とクロスチャージの蓄積を最小限に抑えるのにも役立ちます。DF4はまた、高度な診断と監視を使用しています、センサーとプローブの包括的な配列を含みます、ユニットとプロセスの状態とパフォーマンスに関するリアルタイムデータを提供します。これらのセンサーとプローブは、常に正確さと制御を確保し、着床プロセスの効率を最大限に高めるのに役立ちます。さらに、内蔵のグラフィカルユーザーインターフェイス（GUI）とエキスパートツールを備えており、迅速で信頼性の高い診断と障害診断を行うことができます。また、GUIとExpert Assetにより、注入プロセス全体をカスタマイズできます。さらに、このモデルには、埋め込みプロセスが安全であることを保証するために、いくつかの安全プロトコルが組み込まれています。全体として、VARIAN DF4は高度で洗練されたデバイスであり、イオン注入に関しては精度と制御を提供します。可変電圧範囲から包括的な診断および監視まで、その広範な機能により、可能な限り幅広い材料および条件に対して効率的に動作します。