中古 VARIAN CF 3000 #9242115 を販売中

VARIAN CF 3000イオンインプランター&モニターは、VARIAN、 Inc。が開発した革新的なイオンインプラントおよびモニタリングシステムです。世界最先端のイオンインプラントであり、コンパクトな設計で最大限の柔軟性、信頼性、性能を提供することができます。これは、簡単かつ迅速に調整可能なパラメータで、費用対効果の高いように設計されたマルチソース、マルチターゲットデバイスです。このデバイスには、特殊なイオン注入パラメータを独立して制御するためのユニークなイオンソースが装備されています。このソースには、ビーム電流範囲の1-10mAとビームエネルギー範囲が0〜7,000 eVであり、各着床プロセスを正確に制御できます。そのビーム電流密度は最大600A/cm²の範囲であるため、広範囲の着床プロセスを実行することができます。このソースは、重要なパラメータを持つアプリケーション中に、より正確に、より短い滞留時間でより高い電流注入プロセスを提供するように設計されています。VARIAN CF3000には、移植プロセスが進化するにつれて基板パラメータを迅速かつ正確に測定するためのモダンなモニター設計が付属しています。このモニターは、インプラントの深さ、基板温度、イオンビーム電流およびエネルギー、基板サイズなどのパラメータを測定することができます。モニターには小さなフットプリントと拡張された深度範囲があり、小さな真空チャンバー内に収まるため、ラボ内の貴重なスペースを節約できます。このシステムには、水平、垂直、回転、傾きなどの6軸でのウェーハの超滑らかな移動を目的としたアクティブプラットフォームが装備されています。これは、ユーザーフレンドリーで直感的なソフトウェアインターフェイスによって制御され、ウェーハ基板を簡単に操作できます。また、高精度の温度制御とアクティブ冷却システムを備えており、一貫した正確な結果を保証します。CF-3000はまた、統合された電源を備えたコンパクトな設計を備えており、貴重なラボスペースの節約と運用コストの削減に役立ちます。このデバイスは、信頼性の高い使用のためにメンテナンスフリーであるように設計されており、正確さと長期的な生産性を保証する拡張ライフサイクルがあります。半導体CF3000製造や研究開発など、移植パラメータの精密な制御が求められるラボ環境に最適です。これは、最高の精度と制御を備えた費用対効果の高い汎用性の高いインプランターをお探しの方に理想的なデバイスです。