中古 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta #9292131 を販売中
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販売された
ID: 9292131
High current implanter
IAN Computer, P/N: E11451450
Hard Disk Drive (HDD)
NCS Computer, P/N: E19012602
(4) FIXLOAD 6 Loadports
BROOKS AUTOMATION DBM2706-V2 Buffer robot
(2) BROOKS AUTOMATION VAC407 PRI Robots, P/N: E11451450
Source module:
Gas box, P/N: E11323800
Source head: IHC Source assy, 12"
Manipulator
Part number / Gas stick
E11116732 / Gas1
E11147261 / Gas2
E11147241 / Gas3
E11116782 / Gas5
E11336371 / Gas6
Beamline module:
90° Module: VIISTAHC I
Beam gate assy: 90° Solenoid control assy
Decel lens assy
70° Module
D2 Lens and HCP
Process chamber module:
Angle cup: Sampling cup faraday
Roplat assy
ESC Platen
(3) GRANVILLE PHILLIPS 354019-TD-T Vacuum gauges
(2) EDWARD STP-A2203C2 Turbo pumps
(2) EDWARD SCU-1500 Turbo pump controllers
PFEIFFER TMH-261 YPX Turbo pump
(2) CTI-CRYOGENICS IS1000 Cryo pumps
(3) ZEUS OBIS-320FE Pumps
Main PD assy, P/N: E17352070
Remote PD, P/N: E19012371
Missing parts:
EDWARDS IXL100N
EDWARDS iGX600M
EDWARDS iGX100MTi
AFFINITY PAA-003B-CE50CBD3 Platen chiller.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALTS VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALIES VIIStaは、半導体デバイス製造のための高精度イオンビーム配信を提供するために設計された高度なイオンインプラントおよびモニター。ビームの強度と配置を顕著な精度で制御しながら、ビームエネルギーの広い範囲、その結果、イオン種の多様性を提供することができます。ユニットは、イオンビーム加速およびビーム成形部品、ビームスキャン装置、エンドステーションなど、いくつかのモジュールで構成されています。加速システムは、イオンビームエネルギー制御のための軸場磁気共鳴設計を利用しています。この設計は、500keVまでのイオンビームを生成することができます。このユニットの電源には、正確なビームエネルギー規制のための高速パルス検出回路と制御回路も含まれています。さらに、マシンは、ビームがアプリケーションに適していることを確認するために、いくつかのビーム品質モニターが含まれています。イオンビームスキャンツールは、高度な高速ステアリングアセットに基づいており、リサージュのようなパターンを生成してビームをウェーハに正確に導きます。このモデルは、最大0。02ミクロンの解像度で毎秒256の領域を生成することができ、コンピュータ制御の高速機器が含まれています。イオンビーム蒸気器はまた優秀な制御のための非常に小さい円パターン目標を作り出すことができる。エンドステーションは、プロセスモニターを内蔵した完全自動ウェハハンドリングユニットです。このユニットには、ウェーハとイオンビームの位置と向きを追跡し、インプラント工程を監視するためのセンサーが複数搭載されています。また、オンボードソフトウェアを使用してデバイスの追跡と分析を行います。さらに、このユニットには、さまざまな基板タイプのための汎用性の高いウェーハチャッキングシステムと、インプラント深度を操作するための調整可能なチャンバーが含まれています。最後に、このユニットは、コンピュータネットワークに統合するための双方向の通信インターフェースを備えています。要約すると、AMAT VIIStaは、精密なビームエネルギーを提供し、顕著な精度でビーム配置を正確に制御することができる高度なイオンインプラントおよびモニターです。イオンビーム加速ユニットとビームスキャン制御から、プロセス監視アルゴリズムを統合したエンドステーションまで、その多くのコンポーネントは、これをあらゆる半導体デバイス製造ニーズに最適です。
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