中古 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta PLAD #9359237 を販売中

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ID: 9359237
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2008
Ultra high dose plasma implanter, 12" 2008 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLADは、半導体製造に使用される高度なイオンインプラントおよびモニターです。半導体材料のドーピングを非常に高精度な電荷パターンで制御するツールです。AMAT VIISta PLAD実装は、さまざまな半導体材料を取り込み、特定の用量のイオンでそれらを埋め込み、あらかじめ決められた電気チャネルパターンを作成し、トランジスタやダイオードなどのデバイスを生成します。VARIAN VIISta PLADが使用できるイオンのプロファイルには、ホウ素、窒素、ヒ素、リン、シリコンが含まれますが、これらに限定されません。応用材料VIISta PLADには、デバイス層の一貫性を高め、コストを削減し、デバイスのパフォーマンスを維持するように設計された複数のイオンインプランタツールとモニタがあります。VIISta PLADの主要なツールの1つは、エネルギーおよび角度制御装置(EACS)です。EACSは、幅広いドーピングレベルに不可欠なイオンエネルギーと角分布の正確な選択を可能にします。加速エネルギー、線量、ビームスポットサイズの調整も可能です。VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta PLADのもう1つの主要なツールは、すべてのビームスキャン角度を効率的に使用するビームスキャンシステム(BSS)です。また、広範囲にわたって様々な用量を達成するための高精度な操作とパターンを可能にします。AMAT VIISta PLADには、ガス緩和機、各種ガス用インジェクタインターフェース、イオン源アライメントツール、静電チャック、各種イオン源などの追加技術ツールも多数搭載されています。これらのツールは、時間をかけて安定した動作を維持し、ドーピングプロセスの正確性と信頼性を確保するのに役立ちます。全体として、AMATのVARIAN VIISta PLADは、高度で洗練されたイオンインプラントおよびモニタアセットです。半導体材料のドーピングを正確かつ正確に制御し、特定の充電パターンを作成することができます。
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