中古 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta HC #293651987 を販売中
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ID: 293651987
ウェーハサイズ: 8"-12"
ヴィンテージ: 2005
Ion implanter, 8"-12"
Process chamber
Pumps not included
Source head: Advance 54mm
ESC (Platen): COMP II
Roplat tilter assembly
UES2 Process endstation
Load locks:
Dual, 25 Wafer capacity
Polished integrated loadlock
Self aligning atmospheric door
4-Wafer walk out sensors in pass through cassette
Through-beam wafer mapping sensor
BROOKS DBM- 2076V2 Buffer robot with track movement
ESC Controller:
P/N: E19283790
MFC / Pressure unit: Argon, BF3, AsH3, PH3
Drive mechanism:
E11320430 Orientor assembly
VAC-407 IN VAC Arms
Foups/Load ports: 4-FOUP Complies
Module:
Gas module 1: Argon
Gas module 2: BF3
Gas module 3: AsH3
Gas module 4: PH3
Power supply: 3 Phase, 208 VAC
2005 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta HCは、優れたプロセス制御と信頼性で高い生産性を提供するために開発された高電流イオン注入器およびモニターです。高電圧電源、高電流ビーム射出装置、高度な監視制御システムなど、さまざまな技術を組み合わせています。この高電流電源は、直径200mmまでの薄型および厚い基板用に、最大3 μ A〜45 keVの大きなダイナミックレンジを提供します。注入単位の設計は正確な粒子の変化および現在の配達を保障し、一貫した、反復可能なインプラントを促進します。また、エネルギー、電流、ビーム移動、スキャン速度など、すべての重要なパラメータのデジタル閉ループ制御も提供します。高度な監視および制御機械は、サンプル品質を最大化し、手動による介入を最小限に抑えるように設計されています。プロセスモニタリング用の複数のセンサー、インプラントコントローラをインターフェースするプログラマブルロジックコントローラ、ユーザー定義パラメータ用のインタラクティブコントロールインターフェイスを備えています。さらに、このツールの実装により、高精度な着床時間が確保され、全体的なプロセス制御が向上します。AMAT VIISta HC Ion Implanter and Monitorは、均一性、スループット、および容量に対する最も要求の厳しい要件を満たすように設計されています。スループットを向上させ、生産レベルを向上させるとともに、最も厳しい仕様を満たすように設計されています。さらに、それは異なった生産の条件のための容易な維持そしてプロセス最適化のために設計されています。さらに、デジタル信号処理とデータ表示を提供し、最適なインプラント結果を正確に分析することができます。
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