中古 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80HP #9292217 を販売中
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ID: 9292217
Ion implanter
IAN Computer, P/N: E11130730
NCS Computer, P/N: E11083873
End station:
Platform type: UES Buffer, P/N: E11138370
(4) BROOKS AUTOMATION Fixload 6 Loadports
BROOKS AUTOMATION DBM 2706 Buffer robot
(2) BROOKS AUTOMATION VAC-407-2A PRI Robots, P/N: E40001450
Source module:
Gas box, P/N: E11140710
IHC Source removed
Manipulator
Part number / Gas stick
E11116732 / Gas1
E11147261 / Gas2
E11147241 / Gas3
E11147251 / Gas4
E11116782 / Gas5
Beam-line module:
90° Magnet assembly
Decel lens assembly
70° Magnet assembly
D2 Lens: Lens assembly and ES Decel
Process chamber module:
Angle cup: E11127951
Roplat kit
(2) MKS 354019-TD-T Vacuum gauges
(2) EDWARD STP-A2203C2 Turbo pumps
(2) EDWARD SCU-1500 Turbo pump controllers
PFEIFFER TMH-261 YPX Turbo pump
(3) CTI-CRYOGENICS OBIS-250F Pumps
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Turbo pumps
(2) EDWARD IQDP80 / QMB500 Rough pumps
EDWARD IGX100M Rough pump
Main PD assembly, P/N: E17352070
Remote PD, P/N: E19012371
Missing parts:
AFFINITY PAA-003B-CE50CBD3 Platen chiller
(2) Manipulator controllers, P/N: E11290090
Beam gate assembly, P/N: E11084150
Supply interface PCB, P/N: E15003820
Orient assembly, P/N: E11320430
PMC A3 Board, P/N: E11559950
Left PRI Robot, P/N: E40001450
ESC, P/N: E11368067
Bipolar switch box, P/N: E11335731
QUAD2 Lens assembly, P/N: E11320190
QUAD2 Power supply, P/N: E19297910
D2 Power supply, P/N: E11326011
Source isolation controller, P/N: E11106222
K2 Relay, P/N: E65000649
(3) ADIO, P/N: E11292270
PFG Controller, P/N: E11092090
V17 Valve, P/N: E32000150
Scan motor assembly, P/N: E11061452
L/P Clamp assembly
ARC Power supply CABLE, P/N: E16135690
IG2 Gauge, P/N: 354019-TD-T
(2) IG3 Gauges, P/N: 354019-TD-T
G2 Gauge, P/N: E33000206
G3 Gauge, P/N: E33000206
G10 Gauge, P/N: E33000206.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80HP Ion Implanter and Monitorは半導体製造業界で広く使用されている高精度の機器です。高精度のイオン注入と正確な沈着モニタリングが可能な頑丈なツールです。AMAT VIISta 80HPは、3つの異なるビーム源を使用してイオンをさまざまな半導体材料に埋め込みます。ホウ素、リン、ヒ素、アンチモンなどがあります。モニターはX線検出器で構成されており、移植プロセスによって生成されるX線の強度を測定するために使用されます。三つの異なるソースの組み合わせにより、半導体デバイスの特性を最適化するために、イオン注入の正確なパターンを達成することができます。イオン注入に加えて、VARIAN VIISTA 80 HPも正確な沈着監視を提供します。堆積過程では、堆積層の厚さを測定するためにX線検出器が使用されます。これにより、半導体デバイスの最適な性能のために、レイヤーの所定の厚さが達成されます。制御と精度に関しては、APPLIED MATERIALTS VIISta 80HPは最高レベルの制御を提供するように設計されています。高精度・高精度を提供できる各種コンピュータシステムを保有しています。コンピュータシステムはグラフィカルユーザーインターフェイスと統合されており、ユーザーが操作するのは簡単で簡単です。さらに、システムは高度な監視システムを使用しているため、ユーザーは着床プロセス中に発生する可能性のある問題を簡単に検出できます。全体として、VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISTA 80 HPは高性能イオンインプラントおよびモニターです。精密イオン注入を実行し、蒸着プロセスを正確に監視する機能を備えています。さらに、ユーザーフレンドリーなグラフィカルインターフェイスと高精度なモニタリングシステムにより、半導体業界にとって理想的なツールとなっています。
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