中古 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9218042 を販売中
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販売された
ID: 9218042
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2000
Ion implanter, 8"
SMIF
Left / right load lock
Light tower: Red, orange, green
AFFINITY RAA-012K-CE55CBC Chiller
B-Pure filter
EATON 9PX 3000 Uninterruptible Power Supply (UPS)
Chamber A (DPN):
Aluminium material
Gas box: (5) Sticks, HP, SDS2
N2 MFC: 1slm
Load lock / cassette:
(2) Chambers
UES / Turbo fore line
Standard cassette stage, 8"
Laser wafer mapping
Power supply: 208 V, 50/60 Hz, 3 Phase
2000 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80は、半導体製造プロセスにおける埋め込みおよび分析のための完全自動装置として構築されたイオンインプラントおよびモニターです。業界標準のパフォーマンス要件を満たすための高度なインプラント技術と、統合されたウエハハンドリングサブシステムを備えています。このユニットは、高精度で正確な線量分布と均一性を提供します。インプラントにおいて、高いイオンフラックス率と信頼性の高い均一性を提供することができます。AMAT VIISta 80には、2つの独立したイオン源が装備されており、D-11やE-30、 RFガスフィード、 X線エミッタなどの熱エミッタと補助イオン源を備えています。これらの成分は、多種多様な注入条件で正確な用量を生成するように設計されています。また、複数のロボットを搭載した自動ウェーハハンドリングサブシステムや、イオンインプラントと解析ツールの間でワークを移動するための可動ブリッジも搭載しています。オートメーションアセットは、パターン認識ソフトウェアを使用して、ブリッジ上のウェーハを適切に向けるとともに、複数のツールの正確な動作を容易にします。VARIAN VIISta 80は、シングルウェーハとマルチウェーハインプラントの両方が可能です。また、最適な着床を確保するために、均一または不均一な用量のいずれかで調整することができるパルスモデルを備えています。この機器には、シングルウェーハとマルチウェーハの両方の埋め込みの最適化ルーチンが含まれています。さらに、このシステムは、ビーム電流、温度、ダイナミックレンジ、ビーム強度レポートなどの高度なモニタ機能を提供します。このレポートツールにより、ユーザーはインプランターのビームプロファイル、パフォーマンス、および線量制御を評価することができます。APPLIED MATERIALTS VIISta 80は、半導体製造部門における埋め込みおよび分析のための高効率で信頼性の高いツールです。これは、最適な埋め込み、正確な線量分布、および信頼性の高い均一性を保証する高度な特性を備えています。さらに、監視機能は包括的な分析とレポートを提供し、ユーザーはパフォーマンスを最適化し、厳格なプロセス制御を維持することができます。
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