中古 VARIAN / AMAT / APPLIED MATERIALS VIISta 80 #9217499 を販売中
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ID: 9217499
Ion implanter
No SMIFs or dry pumps
Implant dose performance:
Dose range: 2E12 - 1E16, (4E12 – 1E16 ions/cm2 - quad mode)
Uniformity: ≥10 keV, 1 sigma ≤1.0% mean dose across wafer
500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1.5% mean dose across wafer
Repeatability: ≥10 keV, 1 sigma ≤0.7% mean dose of wafers
500 eV to 10 keV, 1 sigma ≤1% mean dose of wafers
Beam parallelism ±1º in X and Y axis for ≥10 keV drift
Ion mass resolution: M/DeltaM > 60 FWHM
Process angles:
Tilt: ±45º; 2 axis; Programable in 1º steps; accuracy ±0.5º
Orientation: 0 - 360º; programable in 1º steps; accuracy ± 1º
Rotation: Equivalent multi-tilt, quad mode
Wafer cooling:
Gas cooled electrostatic platen
200mm < 100ºC @ 800 W beam power
300mm < 100ºC @ 1200 W beam power
Particulate control:
Frontside: ≤0.15 particles added/cm2@ ≥0.16μm particles
Max throughput (wph): 200mm, 300mm
Min 2 scans (4 passes): ≥250, ≥230
Wafer handling:
Backside pick and place wafer orientation
Load locks:
(2) Independent cassette load locks
FOUP/cassette buffer compatible – 4 SEMI E15.1-0298 load ports
AGV compatible
SMIF compatible
Wafer breakage: MWBB 1:100,000
Metals contamination:
Al < 50ppm of implanted dose
Transition and heavy metals (Fe, Cr, Ni, Cu) < 5ppm of implant dose
1999 vintage.
VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80は、半導体材料へのイオンの導入と除去を正確に制御するために設計されたイオンインプラントおよびモニターです。この先進的な装置は、さまざまな材料から高性能な半導体デバイスを作成するために使用できる信頼性の高い高精度なツールをユーザーに提供します。AMAT VIISta 80イオンインプランターとモニターは、高速で安全な操作を可能にする内蔵のインターロックシステムを備えた堅牢な設計を特徴としています。このデバイスはまた、独自の電子ビームウィンドウオプションを備えており、ユーザーはアプリケーションに最適なインプラント深度を迅速に達成することができます。VARIAN VIISta 80は、イオンを注入する際に最高の精度と精度を確保するために、多くの高度な機能を利用しています。イオンインプラント速度、イオンビーム配置、プロセスパラメータの適応調整を可能にする洗練されたアルゴリズムで設計されています。さらに、精度と精度を常に監視する高度なウェーハアライメントユニットを誇っています。モニタリングのために、VIISta 80はリアルタイム光学ビームプロファイリングを使用しており、材料中のイオン濃度レベルに関する最も正確な測定値をユーザーに提供します。この強力なマシンには、ユーザーが材料のイオン濃度をより正確に分析できるようにする強化されたビームビューアも含まれています。応用材料VIISta 80は、危険なレベルの放射線と電気ショックへの曝露を最小限に抑えるために、さまざまな保護および安全対策を備えています。これに加えて、このデバイスは、業界標準の安全基準に完全に準拠するように設計されています。全体として、VARIAN/AMAT/APPLIED MATERIALS VIISta 80は、半導体材料からイオンを注入または除去する際に最適な性能と信頼性をユーザーに提供するように設計された高度なイオンインプラントおよびモニターです。この堅牢なツールは、最高品質の結果と安全な作業環境を確保するために、さまざまな精密制御機能、保護安全対策、およびビームモニターを提供します。
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