中古 VARIAN 8010 #9269115 を販売中

VARIAN 8010は、VARIAN Semiconductor Equipment Associatesが製造するイオンインプラントおよびモニタで、半導体ウェーハのイオン注入に使用されます。8010は、イオンをシリコン、ゲルマニウム、インジウム、ヒ素ガリウムなど多種多様な材料に埋め込むことができる高精度の機器を提供しています。VARIAN 8010は、フィリップスベースの2つのインプラント（PVF-4/2とPVF-4/4）と1つのサーボモーターベースのインプラント（VARIAN 8100）で設計されています。8100インプランターは、精度と精度を最大限に高めるために、注入プロセス全体を自動的に制御することができます。8010にそれをイオン注入のための理想的な選択にさせる複数の特徴があります。1つ目は、幅広い基板を取り扱うことができることで、さまざまな素材からデバイスを作成することができます。VARIAN 8010には可変電流範囲もあり、より広い範囲の粒子エネルギーを埋め込むことができます。8010に静的システムより高いエネルギーにイオンを加速する高度のビーム脈打つ装置があります。このパルスシステムは、粒子の均一性を高め、ウェーハ全体のエネルギー分布を調整することもできます。また、VARIAN 8010には高度なモニタリングユニットが搭載されており、移植プロセス全体を通して基板と移植されたイオンを継続的に監視することができます。このマシンは、投与量、電流、温度、時間、電圧、およびその他のパラメータに関するデータを収集し、注入の進捗状況についてユーザーに即座にフィードバックを提供します。8010はまた、ユーザーがインプラントのパラメータを設定するだけでなく、結果のインプラントのイオンを監視し、分析することができます包括的なインターフェイスを持っています。VARIAN 8010は、非常に正確で正確なイオン注入を可能にします。構成に応じて、ビームスポット径が25 μ mから250 μ mまでのデバイスを製造することができます。8010にまた基質への余分な粒子の浸透を防ぐことができる任意深さのモニター用具があります。要するに、VARIAN 8010はイオン注入器およびモニター資産であり、イオンをさまざまな基板に注入する効率的かつ正確な方法を提供します。8010は高精度で、25 μ mから250 μ mまで及ぶビーム点の直径の装置を作り出すことができます。さらに、VARIAN 8010には高度なモニタリングモデルと、インプラントのパラメータを設定および監視するためのインターフェイスがあります。これらの特徴はすべて8010をイオン注入のための理想的な選択にします。