中古 VARIAN 350D #293600208 を販売中

VARIAN 350Dは、高荷重イオンを半導体基板に正確に供給するために設計された高性能イオンインプラントおよびモニターです。イオン源、ビームライン、質量分析計、ビーム偏向システム、制御コンソールなど、いくつかのコンポーネントで構成されています。VARIAN 350 Dイオン源は、様々なエネルギーやビーム電流のイオンを供給することができる、高真空対応の熱源です。調節可能な周波数と振幅を持つRFジェネレータを搭載し、イオンフラックスを微調整する電子ビームイオン源を備えています。ビームラインは、焦点磁石、加速電圧源、および静電偏向プレートのセットで構成されています。このビームは、イオンビームの軌道とエネルギーを細かく制御することを可能にする、集中磁石によって生成される磁場によって集中されます。加速電圧源は、必要なインプラントエネルギーにイオンを加速するために必要なエネルギーを提供します。静電気たわみプレートを使用して、イオンビームを偏向させ、目的のターゲット基板に向けて蒸発させます。質量分析計は、移植されたイオンを測定および監視するために使用されます。イオンフラックスと線量率を正確に制御し、所望の線量を正確に制御することができます。これは、チャンバーとイオン種とそれぞれの強度を測定する高インピーダンス検出器のセットが装備されています。350Dは回転偏向器から成るビーム偏向システムおよび調節可能なビーム形成格子が装備されています。ディフレクターはビームの位置を切り替えるのに使用され、ビームの発散を減らし、ビーム形を制御するのにビーム形成格子が使用されます。このシステムにより、イオンビームをターゲット基板に対して正確に配置することができます。コントロールコンソールは直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスを提供し、注入パラメータを正確に制御し、注入プロセスを監視します。また、350 Dをリモートで監視し、インターネット上で制御することもできます。VARIAN 350Dは強力で精密なイオン注入器およびモニターであり、高荷重イオンの高精度な用量を基板に供給することができます。そのコンポーネントの組み合わせにより、埋め込みプロセスを完全に制御し、イオン種の正確な用量を基板に埋め込むことができます。ドーピングレベルを正確に制御する必要があるデバイスの製造に最適なツールです。