中古 VARIAN 300XP #9390703 を販売中
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ID: 9390703
ウェーハサイズ: 6"
ヴィンテージ: 2004
Implanter, 6"
Dual end stations
Implant angle: 0°-7°
Source type: Freeman ion source
BROOKHAVEN X and Y Scan master amplifiers
Beam energy probe: 0-200 kV
Remote beam monitor on control console
Extraction: 0-35 kV
Standard 300XP grounded platen
Corner cup integration
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 Source rough pump, 3 Phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 B/L Rough pump, Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 E/S Rough pump ,Single phase
ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER 2012 / 2008 Load lock pump, Single phase
VARIAN VHS 4 Diffusion source Hi-Vac pump
VARIAN B/L Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
VARIAN E/S Hi-Vac pump with CTI-8 Cryo pump
CTI Compressors
Acceleration / Deceleration power supply kit: -2 kV
AMU: 0-124
Process control terminal: 486 with remote control console
XP scan controller dosimetry system
SDS control system
(4) Gas systems:
(3) MFCs
HP for boron
Fiber optic control interface:
High voltage terminal
Ground level controls
2004 vintage.
VARIAN 300XPは半導体産業で使用するために設計された高性能イオンインプランターおよびモニターです。イオンを高精度に高速で多種多様なターゲットに埋め込むことができます。VARIAN 300 XPは、独自のソース構成と操作ソフトウェアの助けを借りて、さまざまな詳細なプロセスアプリケーションを提供することができるコンパクトで汎用性の高いマシンです。このデバイスは、3磁石設計と6軸動作装置を使用して、正確で正確なイオン注入を行います。この技術により、ビーム幅を0。1mmまで加速することができ、0。03mmまでの精密なビームスポットサイズが可能になります。さらに、ビーム電流範囲は0。01-50 µAから拡張されます。それは1-500 pmの動的範囲の高感度の連続的なビーム現在のモニターを特色にします。このデバイスは、20〜400°Cの温度範囲で、幅広いプロセス範囲で動作するように設計されています。300XPは、望ましいビームエネルギーと加速度を選択し、ビーム角度を制御するために使用できる2モードイオン源を備えています。イオン源は、酸化抵抗モードまたは最大溶解モードのいずれかでチューニングすることができます。このデバイスは、埋め込まれている基板の特性を正確に検出し、操作とビームコリメーションに適切な調整を行うことができる自動ローディングシステムを備えています。300 XPは、さまざまな用量とエネルギーを測定することもできます。このデバイスは、ビーム幅とビーム電流を正確に制御できる高度な制御ユニットを備えています。そのデータ収集機は、アップグレードされたパルス源の助けを借りて、線量とエネルギーを同時に測定することができます。このツールは、プロセスの歩留まりと出力を分析するためのさまざまなリアルタイムグラフとレポートを生成することもできます。VARIAN 300XPは、半導体業界にさまざまなインプラント・ソリューションを提供できる、効率的で信頼性の高い資産です。その効率的で精密な設計により、精度と精度を必要とするさまざまなアプリケーションに最適です。その汎用性、プロセス範囲、柔軟性により、半導体業界のあらゆるプロセスに適しています。
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