中古 VARIAN 300XP #9182165 を販売中

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ID: 9182165
Ion implanter.
VARIAN 300XPは、高精度イオン注入を行うように設計されたイオン注入器およびモニターです。超小型構造物などのナノ構造物の製造に最適で、半導体製造や材料科学に使用される汎用性の高いツールです。この洗練されたインプランターとモニターは、半導体加工装置のサプライヤーであるVARIAN Semiconductor Equipment Associatesの製品です。優れた性能と柔軟性を兼ね備えており、多種多様な材料を埋め込み、高精度な構造に組み込むことができます。VARIAN 300 XPは、50 keVから1 MeVまでのエネルギーを持つイオンを埋め込むことができる単室平行プレート静電気加速器です。ビームエントリーチャンバー、ビーム照射チャンバー、およびいくつかの周辺システムが装備されています。ビームエントリーチャンバーには、イオン源ホールディングビームライン光学、イオンインジェクタ、および2つのビーム偏向システムがあります。ビーム照射チャンバーには、調整可能なソース、圧力制御チャンバ、およびイオンビームの位置決め用の特殊光学が装備されています。また、ソースモニター、コレクター検出器、イオンモニター、ファラデーカップを収納してビームの電荷を測定します。300XPはイオン注入のユーザーに前例のない精密さを提供します。その高度なビーム彫刻技術は、正確な形状と構造を作成するために使用することができ、その周波数制御イオンインジェクタは、イオンが特定の空間に均等に分布することを保証します。インプランターにはソースモニターカメラを装備することもでき、イオンビームが形成され、局所化され、アライメントと安定性を確認するために使用されます。300 XPはまた、ビームプロファイルとエネルギー設定の調整に関しても柔軟性を提供します。ユーザーは、ビーム形状、サイズ、スポットプロファイルを毎回再調整する必要なく簡単に変更できます。これは、圧力制御されたチャンバと特殊光学系と組み合わせることで、均一なサイズのナノ構造を生成するための効率的なツールとなります。このイオン注入器とモニターは、幅広い材料にイオンを注入するための高精度で信頼性の高いツールをお探しの方に最適です。高度なビーム彫刻技術と調整可能な設定により、精度を損なうことなく複雑なナノ構造を作成する柔軟性をユーザーに提供します。VARIAN 300XPは、精度と再現性を備えたナノ構造を製造するための費用対効果の高いソリューションです。
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