中古 VARIAN 300XP #293829234 を販売中
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ID: 293829234
ウェーハサイズ: 5"-6"
Ion implanter, 5"-6"
Wheel
Wafer tilt: 7
Source: Beam
Extraction system: Copper pipe/bellow
Gases: BF3, Ar, PH3
SDS Gas box: High pressure
Maximum implantation energy: 120 Kev
Maximum Extraction voltage: 80 Kev
Cooling water pump
(2) Trays
AMU
Beamline column
Mechanical clamp
8 x 3 Cryo.
VARIAN 300XPは、VARIAN、 Inc。が開発・製造したイオンインプラントおよびモニターです。薄膜材料にイオンを埋め込むための半導体業界で広く使用されています。このイオン注入器およびモニターは非常に信頼でき、正確であるように設計されています。VARIAN 300 XPは、高電圧と運動エネルギーの組み合わせを使用して、正確で制御されたイオン注入を実現します。300XPはイオンを高速に加速し、正確に制御された線量と角度で薄膜に注入します。これにより、移植されたイオンのより滑らかで均一な分布が可能になり、より信頼性が高く正確な結果が得られます。300 XPは、ユニークな差動ポンプ技術を使用して作業室全体を真空化し、イオンを埋め込むクリーンで一貫した環境を作り出します。これにより、汚染のリスクを低減し、正確で一貫した結果を保証します。VARIAN 300XPはまた、埋め込み中の粒子の即時およびSPCベースのエンドポイントの拒絶を可能にする統合された粒子検出および受け入れシステムを備えています。これにより、ユーザーは注入プロセスをより大きな制御し、最高品質の結果を保証するのに役立ちます。VARIAN 300 XPは、ウェーハの位置決めと配置を正確に行う自動ウェーハ位置決めシステムも備えています。これにより、移植に伴う時間とコストが削減され、各移植の精度が向上します。300XPは使いやすく、維持するように設計されました。これにより、さまざまなアプリケーションにとって非常に効率的で費用対効果が高くなります。これは、最も厳しい要件を満たす高品質のイオン注入結果を生成することができます。その結果、多くの半導体製造業者にとって最も信頼され信頼できる選択肢となっています。
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