中古 VARIAN 160XP #9182285 を販売中

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ID: 9182285
ウェーハサイズ: 4"
High current implanter, 4" Can be converted to 6" Maximum beam current: 10 Ma Implant angle: 7° RLS Wafer exchange system (4) Gases: Phosphine Arsine Boron & argon.
VARIAN 160XPは、固体材料にさまざまなイオン種を堆積させるように特別に設計された高度なイオンインプラントおよびモニターです。このデバイスは、半導体加工、マイクロエレクトロニクス研究、リソグラフィなどのアプリケーションに最適です。汎用性と高度な機能を備えたVARIAN 160 XPは、正確で正確なイオン注入を必要とするアプリケーションに最適です。精密で信頼性の高いビーム形成光学系160XP使用することで、エネルギー拡散を最小限に抑えた広いエネルギー範囲でイオン種を堆積させることができます。つまり、ユーザーはデバイスのビーム集中メカニズムを簡単に調整して、必要な正確なエネルギー範囲で種が埋め込まれていることを確認することができます。さらに、160 XPはパルスモードまたは連続モードで動作できる高効率のインプランタです。ユーザーがパルスモードでデバイスを操作できるようにすることで、インプランターはビームレット全体の時間を短縮し、線量率を効果的に低下させ、総ビームエネルギー消費を削減することができます。これは時間とエネルギーの両方を節約するのに役立ちます。VARIAN 160XPのビーム監視システムは、線量とビーム安定性の面でも正確さを保証します。6軸ビーム角モニターと広範囲ビームプロファイルモニターで構成されています。前者は横方向の動きと公称ビーム位置の両方の角度変動を測定し、後者はビームプロファイル特性をチェックします。インプランターには、発生する可能性のあるビーム関連事故から保護するための高度な安全機能も含まれています。このような機能には、ビームインターロック、ビーム強度モニタ、および線量レートモニターが含まれます。これらのモニターは、ユーザーが過圧ビームやフィールドに偶発的にさらされるのを防ぎ、安全性を確保するのに役立ちます。全体的に、VARIAN 160 XPは、イオン種の範囲の精密移植に使用できる高度なイオンインプラントおよびモニターです。正確で効率的な操作により、マイクロエレクトロニクス研究や半導体加工に最適なツールです。さらに、その安全機能は、ユーザーにとって信頼性と信頼性の高い選択肢となります。
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