中古 VARIAN 160XP #9130946 を販売中

VARIAN 160XPは、半導体製造内の大量アプリケーションに適した高性能イオンインプラントおよびモニタです。窒化ケイ素ビームの混合技術を利用して、ウェーハ基板内にイオンを埋め込む際の最大精度と粒子制御を実現しています。VARIAN 160 XPは、リアルタイムのクローズドループビーム制御システムを使用して、着床プロセス中の品質と精度を保証します。このシステムは、ウェーハの個々のショットごとにビームプロファイル、充電状態、ビーム電流、およびエネルギーを監視し、着床サイクル中の精度を維持するためにパラメータを変更する必要があります。160XPは、直径100〜400mmまでのサンプル基板に対応でき、複数基板上で同時にハイスループット注入処理を行うようにプログラムすることができます。中電流インプラントを使用することで、正確な制御と精度で最大4。5x1012 イオン/sqcm/secのビームフラックスレートを提供できます。幅広いビームエネルギー設定により、浅い基板と重いドーパントを同時に埋め込むことができます。ビーム技術の高効率は、大幅なコスト削減と、ビームの一貫性と信頼性の向上をもたらします。160 XPはまた、粒子イメージング、ビーム電流測定、ビームエネルギーモニター、基板温度制御など、さまざまな監視および制御コンポーネントを提供します。また、温度および減速電圧測定用のデジタルディスプレイも備えています。さらに、VARIAN 160XPには、不良ビーム制御または誤った着床結果を引き起こす可能性のあるビーム電流変化から保護するフェイルセーフシステムがあります。全体として、VARIAN 160 XPは高度なイオン注入器およびモニターであり、正確で正確で信頼性の高い注入結果を提供します。半導体製造における量産アプリケーションに最適であり、モニタリング機能により欠陥の少ない正確な結果を保証します。非常に効率的なビーム技術により、160XPはあらゆる生産ラインにコスト削減とパフォーマンス向上を提供できます。