中古 SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3 #9144965 を販売中

SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3
ID: 9144965
ウェーハサイズ: 8"
High energy ion implanter, 8".
SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-MC3は、高度な半導体加工に使用されるイオンインプラントおよびモニター装置です。低電流、高分解能のインプラント用に設計されており、さまざまなプロセス工程やイオン源のニーズに合わせて調整することができます。このシステムは、温度および圧力制御、エネルギー変調、ビームブロッキング、および電流統合などの多くの機能を統合して、最高のプロセス結果を保証します。SEN NV-GSD-MC3は、20cmのインゴットソースイオンインプランターで、70cmの制御チャンバーを備えており、幅広いインプラントのパラメータと実装技術を可能にします。浅い接合部と深い接合部の両方の埋め込みを作成するだけでなく、低電流高分解能の埋め込みを提供するために使用することができます。単位はイオンの正確な適量そして封じ込めを保障するデジタルイオンモニターを含んでいます。インプラントのパラメータと技術の広い範囲を作成する能力に加えて、マシンには、高電圧電源、統合されたマスフローコントローラ、および温度および圧力制御ツールが装備されています。これにより、最高のプロセス安定性と精度、ならびに最適なインプラント注入プロセスが可能になります。ビーム分割や散乱など、さまざまなビームブロッキング技術が実装されているため、ウェーハ全体の高い均一性と制御可能なエネルギー分布が維持されます。また、高度なアルゴリズムを使用してプラズマ中のガスの均質な温度分布を制御し、プロセスの安定性と生産性を向上させます。さらに、このモデルは、複数のソースからの電流を統合し、デジタルイオンモニターでインプラントのビームを監視および分析する機能を備えています。住友EATON NOVA NV-GSD-MC3は、高度なインプラント性能と制御を提供するために設計された高度なインプラント装置です。それは浅く、深い接合部の注入、また低電流の高分解能の注入を含む広い適用のために適しています。このシステムは、さまざまなビームブロッキング技術、温度および圧力制御、および電流統合により、最適なプロセス安定性と精度を提供するように設計されています。
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