中古 SEN / SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HE3 #9283245 を販売中
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ID: 9283245
ウェーハサイズ: 12"
High energy implanter, 12"
(4) FOUP
Energy Range: 10 KeV to 3750 KeV with RTEM (Real Time Energy Monitoring Capability)
UPS: MUF3051-BL
Mass analysis magnet and power supply
Inject flag faraday
Power supply: 3 kW, 13.56 MHz
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
LIner Accelerator:
(12) High energy resonator cavities
(14) Quadrupole
Quadrupole Lens and power supply
Final energy magnet and power supply
Resolving faraday
Continuous variable aperature
IBM work station
End station wafer handling:
In-air/In-vacuum high throughput wafer handling system
ULPA filtered wafer handling area
Automatic notch alignment capability with buffer cassette
Integrated dummy wafer fill-in capability
Slot to slot wafer integrity
End station disk:
Two axis variable implant angle
(13) Wafers process disk with direct, 12"
End station dose control:
Real time patented dose control
End station robot: SEN MACOROB 300
End station options:
Valved RGA port on end station resolving
Valved RGA port on disk module
Faraday burn through sense
Facilities utilities:
Feed from bottom
Feed gas box exhaust from top
Facilities cables:
Remote cryo pump compressor cable
Rremote disk chiller cable
High voltage beacon
Main PD assembly
Signal tower light assy
(4) Light CE
Fire safety kit smoke detector
VESDA
60 Hz Standard
Gas box exhaust needs to feed from top
High Voltage Warning Display - English
Gas box:
Gas 1 type Gas box gas type position Ar with HP
Gas 2 type Gas box gas type position BF3 with SDS
Gas 3 type Gas box gas type position BF3 with SDS
Gas 4 type Gas box gas type position PH3 with SDS
Gas 5 type Gas box gas type position PH3 with SDS
MFC2 Unit 8160 10 ccm
MFC3 Unit 8162 5 ccm
MFC4 Unit 8162 10 ccm
MFC5 Unit 8162 10 ccm
Remote rack:
SEN chiller
Heater exchange from FAC
Service PC X-terminal
Door Bypass Switch:
Source head: ELS
3-AXIS Extraction electrode:
Vacuum Cryopump CP2 BROOKS OB-8
Vacuum Cryopump CP3 BROOKS OB-10
Vacuum Cryopump CP7 BROOKS OB-250F
Vacuum Cryopump CP8 BROOKS OB-250F
Vacuum STP-2203C TP1
Vacuum STP-A803C TP4
Vacuum STP-A1303C TP5
Vacuum STP-A803C TP10
Vacuum STP-A1303C TP11
Vacuum STP-A803C TP12
Manual included.
SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HE3は、ナノ構造の製造と材料研究のために設計された高度なイオンインプラントおよびモニター装置です。システムの主なコンポーネントは、イオン源、加速チャンバ、モニタ、およびASIC（アプリケーション固有集積回路）モジュールです。SEN NV-GSD-HE3のイオン源は、広範囲のエネルギー拡散と電流を提供するデュアルビームOpti -GSD（ガス安定放電）源を利用しています。これにより、イオンエネルギーの分布と電流を正確に制御することができ、住友EATON NOVA NV GSD-HE3高性能ナノ構造の製造に最適なユニットです。Opti-GSD技術は、ソースに関する追加情報を提供するデュアルモニタマシンの使用によってさらに強化されています。これにより、ソースパフォーマンスに関するリアルタイムのフィードバックが得られ、信頼性と使いやすいNV GSD-HE3が得られます。NV-GSD-HE3はまた、可変加速電圧の広い範囲の加速チャンバを備えており、高いスループットと柔軟性を可能にします。これにより、高精度で高品質のナノ構造を製造することができます。SEN NV GSD-HE3は、精密に調整されたモニタと制御設定を提供するASIC （Application Specific Integrated Circuit）も備えています。これにより、ビーム速度、ビーム電流、ビーム形状、線量率、総イオン線量など、さまざまなイオンパラメータを正確に制御および監視できます。この技術により、住友EATON NOVA NV-GSD-HE3研究開発に最適なツールとなります。結論として、SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV GSD-HE3は、ナノ構造の製造と材料研究における研究開発に最適な資産です。デュアルビームOpti -GSDイオンソースを備えており、幅広いエネルギーと電流スプレッドを提供し、精密加工に最適です。また、さまざまな可変加速電圧と、イオンパラメータを正確に制御および監視するためのASICモジュールを備えているため、汎用性と信頼性が高くなります。さらに、モニターモデルは、ソースパフォーマンスに関するリアルタイムのフィードバックを確実にし、機器を使いやすくします。SEN/SUMITOMO EATON NOVA NV-GSD-HE3は、ナノ構造の製造と材料研究に優れたシステムです。
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