中古 SEN / SUMITOMO EATON NOVA / AXCELIS Disk for NV GSD-HE #293649983 を販売中

ID: 293649983
ウェーハサイズ: 8"
8".
SEN/SUMITOMO EATON NOVA/AXCELIS Disk for NV GSD-HE (GSD-HE)は、大量の材料処理用に設計されたイオンインプランターおよびモニターです。これは、半導体製造、マイクロエレクトロニクスデバイス製造、イオン注入など、さまざまな用途のための原子化された粒子を堆積し、監視するために使用されます。GSD-HEは、最適化された機器設計により、非常に高精度な動作を実現する高度な抵抗フィードバック型イオンインプラントを備えています。このシステムは、材料のサイズ、形状、または不均一性に関係なく、材料を迅速かつ正確かつ効率的に移植するために、J字型イオン源を使用します。また、GSD-HEは高度な基板サポートを採用し、3次元基板制御と高解像度の「窓」モニターを提供し、ユーザーは時間の経過とともにイオンビームのたわみを観察することができます。また、GSD-HEには高性能な光検出器が搭載されているため、埋め込まれた材料や堆積物を非常に正確に測定および制御することができます。検出器は高解像度のCCDカメラで構成されており、イオンビームの形状とそのコントラストを監視するために使用される真空防止光学シャッターが付属しています。また、高精度の圧力センサを搭載し、高精度なガス流量制御を可能にし、より効率的な運転とスループットの向上を実現します。また、工具の温度を正確に測定するために使用される熱画像処理装置を備えており、安定性に貢献しています。GSD-HEは革新的な3Dカッターを備えており、マイクロマスク解像度で3D浮上パターンなどの複雑な地形構造を可能にします。これはアセットのユニークな特徴であり、異なる埋め込み材料を複数のレベルで必要とする大量の多層材料を効率的に処理することができます。操作では、3DカッターはX、 Y、 Z軸に沿ってターゲット基板を移動させ、各インプラント層の深さと形状を正確に調整できます。さらに、マイクロエレクトロニクスデバイスアセンブリなどの非常に小さな部品を正確に取り扱うことができ、高精度の材料加工にとって重要な利点です。GSD-HEは、非常に大きな制御およびデータ処理能力を備えているため、大量の材料プロセスや複雑な地形構造に適しています。高機能な64ビットCPUを搭載し、高速で高精度なデータ処理に対応する20。5テラ(TOPS)以上の処理能力と、高速ランダムアクセスメモリ(RAM)および16GBのフラッシュストレージを提供します。この高効率モデルには、イーサネットポート、IEEE1394、 USBポートが2つあり、インターネットやその他の外部デバイスへの接続が可能で、効率的なデータ通信、転送、情報の保存が可能です。全体的に見ると、SEN Disk for NV GSD-HEは、独自の高度なイオンインプラントおよびモニタであり、3D昇降パターンやマイクロエレクトロニクスデバイスアセンブリなどの高精度で複雑な材料プロセスを可能にします。高精度で高スループットの装置設計により、大規模な材料加工アプリケーションに最適で、ユーザーは非常に正確で信頼性の高い結果を得ることができます。
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