中古 NOVA T4500 #9233674 を販売中

NOVA T4500は、インプラント・サイエンス社が開発したイオン注入器およびモニターです。半導体デバイスの製造に使用するために設計された工業用グレードのインプランターおよびモニターです。T4500は10から5500 keVまで及ぶエネルギーおよび4x106 A/cm2までの線量率の高エネルギーイオンを作り出すことができます。装置は、1〜4 mAの合計イオンビーム電流範囲を持っています。NOVA T4500は連続フローイオン注入器であり、イオンは一方の端でシステムに連続的に供給され、もう一方から抽出されることを意味します。これにより、ユニットを継続的に停止して起動する必要がなくなり、スループットが向上し、メンテナンスコストが削減されます。機械にビーム電流制御の2つの軸およびイオンエネルギー制御の2つの別の地域があります。これにより、イオンビームプロファイルを正確に制御することができ、非常に均一なイオンインプラントを生成することができます。T4500は、チャンバーの全幅にわたってイオンビーム電流とエネルギーの非常に高いレベルの均一性を生成するように設計された高度なイオン光学および電子ハードウェアを装備しています。アセットには、イオンビームプロファイルの調整を可能にする高度なイオン光学プロファイリングソフトウェアも装備されており、ビームの形状とサイズを正確に制御できます。NOVA T4500には、リアルタイムでイオン注入パラメータの追跡と分析を可能にする包括的な監視モデルも装備されています。監視装置には、ビーム電流とエネルギー、総量、線量の均一性、漏れ電流、温度データなどの機能が含まれています。これにより、注入プロセスを正確かつ一貫した制御が可能になり、すべてのインプラントが一貫しており、最高品質であることが保証されます。インプラントおよびモニタリング機能に加えて、T4500には高度なプロセス制御およびデータ分析ツールも装備されています。これらのツールは、注入プロセスをリアルタイムで分析し、注入プロセスの詳細なレポートを提供します。NOVA T4500は、最も要求の厳しい産業環境で使用するために設計された、高度で信頼性の高いイオンインプラントおよびモニターです。高度なイオン光学および電子ハードウェア、監視機能、およびプロセス制御およびデータ分析ツールを組み合わせることで、産業用イオン注入プロセスに理想的なソリューションとなります。