中古 NOVA GEPM 17 #9233716 を販売中

NOVA GEPM 17は、ハイテク産業向けのイオンインプラントおよびモニターです。正イオンをシリコン半導体ウェーハなどの基板に精密に埋め込むことができるように設計されています。これは、現代の技術に不可欠な優れた電気特性をウェーハに提供します。GEPM 17は、イオン源、質量分析計、エネルギーアナライザ、および複数の検出器を含むいくつかのコンポーネントで構成されています。イオン源は加速管の下で加速されるイオンのビームを発生させます。質量分析計は、イオンの種を分離して識別し、そのエネルギー分布を測定します。エネルギーアナライザは、ユーザー定義のパラメータに従って各イオン種の運動エネルギーを制御および修正します。最後に、検出器は、イオンビーム放射の圧力、電流、および速度を測定します。直感的なソフトウェアインターフェイスを使用して、NOVA GEPM 17の実行パラメータを設定できます。これらのパラメータには、イオンの種類、エネルギー、合計フラックス、ビーム形状、生産速度および持続時間、電源監視、圧力監視、およびその他の高度な設定が含まれます。これらのパラメータを使用すると、ユーザーは複雑なウェーハの埋め込みプロセスを正確に調整および制御できます。GEPM 17は、プロセスデータをリアルタイムで監視および記録することもできます。このようなデータには、システムの温度と圧力、電極の電流測定、ビーム電力が含まれます。これにより、最適な条件が達成されるまでプロセスをさらに微調整することができます。さらに、それはさらに分析や参照に使用することができ、すべての埋め込みステップのログを提供します。全体として、NOVA GEPM 17は高度で堅牢で信頼性の高いイオン注入ソリューションです。その機能、監視機能、およびユーザーフレンドリーなソフトウェアは、インプラント処理のための包括的でアクセスしやすいプラットフォームを提供し、業界がその精度と効率から恩恵を受けることを可能にします。