中古 NISSIN Exceed 2000 #9223171 を販売中
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ID: 9223171
ウェーハサイズ: 3"-4"
ヴィンテージ: 1997
Medium current ion implanter, 3"-4"
PN: E95-3005
Energy range: 10-200 kV
(4) Cassette stages
(2) Loadlocks: Left and right
(2) Orienters: Auto-flat / Notch find
Ion source chamber
Beamline chamber
End station chamber
Pumps:
Dry pumps:
Make / Model / Class
ALCATEL / Drytel 34C / Load / Lock (DP-4), 450 L/sec
ALCATEL / Drytel 31 / Target chamber (DP-3), 450 L/sec
KASHIYAMA / SD 90V III / F.E.M (DP-2), 1500 L/sec
KASHIYAMA / SD 90V III / S.A.M / lon source (DP-1), 1500 L/sec
Turbo pumps:
Make / Model / Class
SHIMADZU / TMP51G / Load / lock (TP 4 and 5), 55 L/sec
SHIMADZU / TMP1002 / F.E.M (TP-3), 800 L/sec
SHIMADZU / TMP1002 / S.A.M (TP-1 and 2), 800 L/sec
Cryo pumps:
Make / Model / Class
CRYOTEC-12L / V208SC612GN / Target chamber (CP-2), 4000 L/sec
CRYOTEC-12L / V208SC612GN / Collimator (CP-1), 4000 L/sec
DAIKIN U110CW Compressor
Process gas:
SiF4 (0.35L): 200 keV, Si+200 µA - 20 µA, SI++ 20 µA - 5 µA, 5E12
Ar (0.35L): 200 keV, 1000 µA, 5E12
High voltage range:
Extraction power supply: 0 keV - 70 keV
Acceleration power supply: 0 keV - 180 keV
Power supplies (Assembly):
Arc
Filament
SAM
ACC
DEC
Focus
TRIM-Q
FEM
Column
DC / AMP
Faraday suppression
ISO TX 160 kV
HV Stack 160 kV
Controllers (Assembly): BSM, FEM, P/C, SAM, W/C, WFC, V/C, I/C, O/F, TQ, T/C, I/G, T/P
Utilities:
Air: 100-150 PSI
N2: 40-150 PSI
Cooling water: 60-150 PSI
Temperature: 4°C - 21°C
Operating system: Windows XP
Power supply: 208 VAC, 3-Phase, 65 kVA
1997 vintage.
NISSIN Exceed 2000は、高性能な半導体製造のために設計された高度なイオンインプラントおよびモニターです。この装置は、最先端のエレクトロニクス、センサー、制御システムを使用して、イオンをさまざまな材料に正確に埋め込むことで、一貫した均一で再現性のある製品品質を実現します。このシステムは、特定の設計およびプロセス要件を満たすために簡単に調整することができる幅広い埋め込みパラメータを提供します。ユニットの主な機能は、イオン注入を行うことです。イオン種、注入深度、注入角度、ビームエネルギー、その他多くのパラメータなど、さまざまな注入パラメータを使用することで、ユーザーは目的のアプリケーションに合わせてインプラントをカスタマイズすることができます。マシンはまた、時間を節約し、セットアップ時間を最小限に抑えるために、複数のカスタマイズ可能なプログラムを保存することができます。モニターは、埋め込みプロセス中のプロセスの状態と現在のパラメータを監視するツールの統合コンポーネントです。このモニターは、プロセス全体にわたって正しい埋め込みパラメータを維持するための重要なコンポーネントです。モニターはまた、線量および許容誤差に対するリアルタイムのフィードバックを提供し、制御を改善します。この資産は高い信頼性と再現性を備えているため、大量および広範囲のプロセス要件の生産に最適です。堅牢で自動化された設計により、最も困難なアプリケーションでも一貫した品質と再現性に対応できます。Exceed 2000は、複数のカスタマイズ可能なパラメータを備えた信頼性の高い再現可能な自動注入モデルをユーザーに提供します。半導体製造で最も要求の厳しい要件を満たすように設計されており、工業生産に最適です。この装置の統合モニタは、製品品質を向上させるために、プロセス全体で着床パラメータが一貫して維持されるようにするのに役立ちます。
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