中古 NISSIN Exceed 2000 #9144810 を販売中

NISSIN Exceed 2000は、半導体製造プロセス用に設計されたイオンインプラントおよびモニターです。高精度で精度の高い異なる基板に様々なエネルギーのイオンを埋め込むことができます。その高度な機能により、ゲルマニウムやホウ素などの重いイオンを正確に埋め込むことができます。また、ビーム電流、ビームエネルギー、ビームスポットサイズなどのパラメータを精密に制御し監視し、最大のプロセス制御を可能にします。内蔵の精密分析ツールにより、正確で再現性の高い結果が得られます。Exceed 2000は、最高のビーム輝きを保証するユニークな二段ビームの焦点と抽出器の抽出設計を備えています。レーザーを用いて抽出されたビームを集中させる真空チャンバーと、絞り制御ビームラインを使用して、さらに集中した電流分布を生成します。チャンバーには、開口径やビーム軌道を制御するためのセグメント化された蒸発角度などの調整可能なパラメータも含まれています。NISSIN Exceed 2000 implanter and monitorには、重要なプロセス変数を正確かつリアルタイムに制御および監視できる統合分析システムが含まれています。その高度なアルゴリズムは、着床サイクル中に必要な正確なプロセス条件の適切な調整を行うのに役立ちます。また、診断と制御のための高度なイオンビーム分析スイートも提供しています。人間工学に基づいて設計されたExceed 2000は耐久性のためのステンレス鋼の真空部屋が付いている頑丈なアルミニウムシャーシから組み立てられ、EMIおよびEMCの証明の条件を満たすように設計されています。また、操作が簡単なユーザーフレンドリーなタッチスクリーンインターフェイスが含まれており、組み込みプロセッサプラットフォームが装備されています。NISSIN Exceed 2000は、シンプルなメモリチップから複雑な多層回路まで、幅広い半導体デバイス向けに設計されています。その優れた性能と強化された機能により、あらゆる半導体製造プロセスに最適です。堅牢な構造と精密制御を備えたExceed 2000は、あらゆるインプラントおよびモニタリングのニーズに最適なソリューションです。