中古 KLA / TENCOR / THERMA-WAVE ThermaProbe 420 #9315382 を販売中

KLA/TENCOR/THERMA-WAVE ThermaProbe 420は、半導体材料のクリーンで正確な処理を提供するために設計された高度で汎用性の高いイオンインプラントおよびモニターです。このデバイスは、チップ製造などの高精度アプリケーションや、MEMSやナノテクノロジー製造などのより厳しいアプリケーションのニーズに対応するように設計されています。この多機能マシンは、イオンを事前に定義された半導体基板に埋め込むことができ、プロセスを正確に監視することができます。KLA ThermaProbe 420の中心には、高空間精度で均一な線量率の単独荷電イオンを生成する高品質イオン源があります。イオン源は、正または負のイオンを生成するように構成することができるポートで構成されています。イオンは、電気的、化学的、および熱的プロセスの組み合わせによって生成され、クリーンで均一な注入が保証されます。このデバイスは、高度なソフトウェアとハードウェアでさらに強化されています。内蔵の診断および監視機能により、基板内の望ましい特性を達成するためにイオンの用量と濃縮を正確に制御することができます。また、放射スペクトル解析システムも搭載しており、基板内に存在する様々な要素を記録して表示することで、より良い制御のためにパラメータを調整することができます。TENCOR THERMA-PROBE 420は非常に柔軟で、エネルギー範囲、パルス長と周波数、電流密度、エッチング条件、ビーム幅と強度などのプログラム可能なソースパラメータを提供します。これにより、ユーザーは埋め込みプロセスを正確に調整して、基板内で必要なプロパティを生成するか、特定のプロセスをシミュレートすることができます。このデバイスはまた、マスフィルターを備えており、イオンエネルギーの調整を可能にし、インプラントビーム内のさまざまな質量のイオンを分離します。この分離により、移植された層の厚さと均一性を制御し、正確な結果を得るためにイオン線量率を改善することができます。THERMA-PROBE 420は、精度を犠牲にすることなく、シンプルで正確な使用を可能にします。それはあらゆる半導体の適用のための例外的な用具、またより専門にされたニッチの適用です。高精度、詳細なプロセス制御、安全メカニズムにより、幅広い用途に対応する信頼性の高いプラットフォームです。