中古 AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 #9235954 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Ion Implanter and Monitorは、高度な半導体材料で正確に調整された層を作成するために、正確な注入種の用量を提供するように設計された高度なイオン注入および監視装置です。この技術は、高性能、コスト効率、および優れた信頼性を持つ半導体デバイスの製造に使用できます。このシステムは、イオン源を利用して軌道経路に沿ったイオンのビームを生成します。AMAT xR80は、プリセット経路に沿ってイオンを正確に制御および誘導するための高度な磁気技術を実装しています。軌道経路は、アプライドマテリアルズXR 80に組み込まれた高度ガス放出ユニットによってさらに洗練され、異なるエネルギーのイオンの埋め込みを可能にし、デバイス材料にターゲット層の形成を促進します。XR80はまた、エネルギー、電流、位置などのビームパラメータのデータを継続的に取得し、着床プロセスをさらに洗練する高性能ファラデーモニタを装備しています。XR 80は、いくつかの種類のイオンと互換性があるように設計されており、シリコン、ヒ素ガリウム、III-V半導体、および二酸化ケイ素の高温インプラントの作成および監視に頻繁に使用されています。さらに、AMAT XR 80は線量および線量率を監視し、制御する高度なプロセス制御技術を提供します。APPLIED MATERIALS xR80は、イオン注入プロセスに最適な条件を確保するための高速温度制御装置も備えています。AMAT/APPLIED MATERIALS XR 80は、デバイス製造プロセスに組み込むことで、高精度インプラントの迅速な納入を可能にし、サイクル時間を短縮します。AMAT/APPLIED MATERIALS xR80が提供する高解像度スキャンと監視は、デバイスの信頼性の検証と向上にも役立ちます。AMAT xR80プラットフォームはまた、ほとんどのコンポーネントがユーザーサービス可能で再利用可能であるため、所有コストが低くなり、イオン注入プロセスに関連する全体的なコストが削減されます。全体として、AMATのAPPLIED MATERIALS XR 80は、イオンの正確かつ制御された埋め込みと線量および線量率の監視を提供することができる高度なイオンインプラントおよびモニターです。この技術は、高性能、費用対効果、信頼性の高いデバイスをさまざまな材料で効率的に生産することを可能にし、デバイス製造に革命をもたらします。