中古 AMAT / APPLIED MATERIALS xR80 Leap II #9243467 を販売中

AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap IIは、半導体産業のトップラインのイオンインプラントおよびモニターです。高度なディスプレイ、集積回路、メモリデバイス製造用の基板に各種イオンを埋め込むことができる汎用性の高いヘビーデバイスです。イオンを素早く確実に基板に埋め込むように設計されており、一貫した製品品質と性能を実現しています。AMAT xR80 Leap IIは、高圧イオン源、インプランタチャンバー、ビームライン、質量分離ビームライン、およびウエハハンドラからなるX線イオンインプラントです。イオン源には、基板に埋め込むイオンを提供するタングステンフィラメントが含まれています。インプランター室は、基板を貫通するために必要な速度にイオンを加速します。ビームラインは、指定された経路に沿って安定した均一なイオンのビームを作成し、質量に応じてイオンを分離して、正しいタイプのイオンが基板に埋め込まれるようにします。最後に、ウェハハンドラは、埋め込みに必要な正確な位置に基板を配置します。APPLIED MATERIALS xR80 Leap IIのイオンインプランターは、CMC-7000XR Softwareスイートによって制御され、システムの主要な機能を完全に制御し、正確な植え込みパラメータを可能にします。また、統合された最適化ウィンドウが含まれており、エンジニアは、生産されている各デバイスから最高のパフォーマンスを確保するために、さまざまな植え込みシナリオを変更して比較することができます。XR80 Leap IIは、不純物ゲッタリング、マスキング、表面活性化、パッシベーションなどのタスクを実行するのに適しています。イオン注入器とモニターは、正確なプロセス制御を提供し、高い製品歩留まりと一貫した製品品質を保証します。さらに、AMAT/APPLIED MATERIALS xR80 Leap IIは、高度なビームエネルギー制御システムと高度な故障解析ツールをサポートし、高度な診断機能を提供します。AMAT xR80 Leap IIは、半導体産業のますます厳しい要求に応えるように設計された、高度で頑丈なイオンインプラントおよびモニターです。その汎用性の高い設計と統合ソフトウェアスイートにより、エンジニアはさまざまな種類のイオンを基板に迅速かつ確実に埋め込むことができ、信頼性の高い、一貫したデバイス性能を実現します。