中古 AMAT / APPLIED MATERIALS / VARIAN Solion XP #9208076 を販売中
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販売された
ID: 9208076
ヴィンテージ: 2015
Boron ion implantation system
Gross steady state throughput: ≥ 3000 wph
Boron blanket implant: Up to 2.5E15 steady state 3000 wph
Breakage rate: < 0.10%
Operation up-time > 90%
Metal contamination: > Fe, Ni. Cr, Mg, < 2E10 atoms/cm2
Wafer uniformity within 3%
Wafer to wafer repeatability: 4%
Wafer:
Substrate dimension: 156 mm
Substrate thickness: 180 to 220 um
Substrate geometry: Pseudo square
Substrate surface: Textured wafer
2015 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/VARIAN Solion XPは、半導体製造に使用される高精度イオンインプラントおよびモニター装置です。半導体、ディスプレイ、その他の回路を製造するための迅速で正確なイオン注入と監視を提供します。ドーパント濃度に最大1200 A/cm2を埋め込むことができ、30 nmまでの立体分解能で生命のようなイメージングを提供します。AMAT Solion XPは、アクティブな位置監視とクローズドループ電源制御も備えており、高解像度イメージングアプリケーションに最適です。XPには、最先端のスキャンチャンバー、高解像度イオン検出器、精密ウエハハンドリングシステムが装備されています。自動資源割り当て、自己校正、ソフトウェア制御などのユーザーフレンドリーなオプションを使用して設計されています。これらの機能により、ユーザーはスタッフの関与を最小限に抑えて正確かつ効率的にインプラントすることができます。また、使いやすいグラフィカルユーザーインターフェイス(GUI)を備えており、プログラミングとパラメータ設定を簡単に行うことができます。VARIAN Solion XPは、最適な注入精度のために調整可能なビームサイズとアライメントを備えています。そのオートチューニングユニットは、あらゆる環境障害に対して自己補正することができ、均一な埋め込みと放射フィールドの両方のアプリケーションで信頼性が高くなります。自動ソース電源制御により、注入プロセス全体にわたって均一なビーム電力が保証されます。APPLIED MATERIALS Solion XPは、プロセスをリアルタイムで監視するためにも使用でき、迅速な是正措置を可能にします。ビームフラックス、電流、スプレッド、スポットサイズ、および周波数を測定および報告できる検出装置が装備されています。また、複雑で正確なインプラント仕様を可能にするマルチチャンネルシーケンス実装ツールも備えています。Solion XPは、注入プロセスを最適化してコストを削減し、品質を維持したいメーカーに最適です。その拡張性と高度な機能により、半導体業界における将来のイノベーションのプラットフォームとなります。優れた精度と柔軟なプログラミングの組み合わせにより、AMAT/APPLIED MATERIALS/VARIAN Solion XPは、あらゆるビジネスにとって強力で信頼性の高いデバイスです。
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