中古 AIBT / ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300 #9211571 を販売中

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ID: 9211571
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Ion implanter, 12" Wafer type: Notch Wafer per batch: 13 (4) Load ports (2) Cyro pumps: Process chamber: HELIX 350 mm on board Turbo pumps: EDWARDS STP-A2203 WAV EDWARDS STP-451C Dry pumps: EBARA 40*20 EBARA 65*40 EBARA A70W High voltage: Drift mode voltage Low range: 1.0 kV ~ 10.0 kV High range: 10.0 kV ~ 80.0 kV 2006 vintage.
AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300は、電子部品の製造用に設計されたデュアルビームイオンインプラントおよびモニタです。AIBT iStar 300は、半導体部品の製造のためのドーパントの正確な制御と正確な埋め込みを可能にする高効率なツールです。このイオンインプランターとモニターは、粒子ビーム電流の調整、ビームプロファイルの監視、ビーム電流の自動最適化、インプラント深度の調整、表面放射の調整など、幅広い機能を備えています。高度なイオンビーム技術iStar 300は、材料の種類や用途に応じていくつかの異なるイオン種を生成することができる強力なイオン源を持っています。これにより、ホウ素、ヒ素、リン、タリウムなどの幅広い移植が可能になります。IStar 300には、急速充電交換のための高流量の真空ポンプとインプラントのパラメータを正確に調整するための圧力計が装備されています。AIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300はユーザーフレンドリーに設計されており、埋め込みパラメータを簡単に設定および監視できる自動レシピ装置を備えています。AIBT iStar 300にはグラフィカルユーザーインターフェイスが付属しており、ビーム電流、電流スプレッド、ビームプロファイル、ビームコンバージェンス、ビームスペクトル純度などのパラメータを簡単に調整できます。さらに、このイオンインプラントとモニターにより、インプラントの深さと表面放出パラメータを調整することができます。ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300には、イオンエネルギー分光計、ビーム特性評価用イメージングシステム、電気分光計、イオン深度測定ユニットなど、さまざまな診断ツールが搭載されています。さらに、イオンビーム電流とビームプロファイルをオートパイロットマシンで監視することができ、インプラントのパラメータを継続的に監視および制御できます。全体的に、iStar 300は、電子部品の製造のためのドーパントの埋め込みのための高精度、精度と性能を提供するように設計された高度なイオンインプラントとモニターです。これは、さまざまなインプラントの種類だけでなく、さまざまな診断および監視ツールを生成することができる強力なイオンソースを備えています。グラフィカルなユーザーインターフェイスにより、埋め込みパラメータの設定と調整が簡単になり、ユーザーはAIBT/ADVANCED ION BEAM TECHNOLOGY iStar 300イオンインプランターを最大限に活用できます。
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