中古 FSI / TEL / TOKYO ELECTRON PROTEUS I #9235351 を販売中

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PROTEUS Iは、半導体産業、特に原子層成膜（ALD）および化学蒸着（CVD）のプロセスに対応するために設計された設備装置です。FSI PROTEUS Iの応用は、これらのプロセスの一環として基板の配置と整列に使用できます。それは自動的にそして正確に温度および大気を変え、沈殿プロセスを監視できます。TEL PROTEUS Iは、既存の半導体製造システムに適合するように特別に設計された特殊なチャンバーです。これは、個々のプロセスに最適化された超小型の円筒形チャンバーを備えています。基板は誘導コイルを使用して加熱されます。これは強力なマイクロ波信号と組み合わされ、高温の対流補助蒸着（CAD）環境を生成するために使用されます。TOKYO ELECTRON PROTEUS私は温度とガスの流れを自動的かつ正確に制御することができます。特許取得済みの高効率ドラム設計を活用したプロペラポンプを搭載しています。これは、ガスの流れを正確かつ正確に制御できる低流量ガス制御システムと組み合わされています。動作圧力は100〜1000 torr、温度範囲は25〜500°Cです。PROTEUS Iには、沈着の現場分析用のリアルタイムモニターがあります。モニターは各層の厚さ、率、均一性、および構成を沈殿させると同時に読むことができます。これにより、堆積プロセスが仕様に準拠していることが保証されます。さらに、モニターはインプロセスの異常を検出し、オペレータに警告することができます。FSI/TEL/TOKYO ELECTRON PROTEUS Iは、遠隔地からのプロセスを監視・制御できる多機能リモートコントローラユニットです。これにより、監視と調整のために機械に歩く必要がなくなります。それはまた生産ライン内の他の機械とインターフェイスすることができます。FSI PROTEUS Iは、低騒音、高効率ファンモーターを備えています。これにより、他のプロセスに影響を与えることなく、クリーンルームで機器を使用することができます。さらに、それに専門のガスおよび真空システムがあります。これにより、待ち時間を最小限に抑えることができます。結論として、TEL PROTEUS Iは、ALDやCVDなどの半導体産業のプロセスが効率的かつ正確に行われるように設計された設備機器です。これは高精度で制御可能であり、オペレータに遠隔地からプロセスを監視する機能を提供します。また、低騒音、高効率ファンモーターにより、クリーンルームに適しています。これらの機能はすべて、東京電子プロテウスIを半導体製造のための貴重なツールにしています。