中古 BOC EDWARDS TPU 4 #293637343 を販売中

BOC EDWARDS TPU 4は、薄膜成膜、イオンビームエッチング、表面改質用に設計された設備装置です。薄膜加工用途向けの小型・多目的シングルチャンバー装置です。このシステムは、研究、開発、パイロット生産および生産アプリケーションでの使用に適しています。TPU 4はパルスフィラメントによって動力を与えられます、それは主要なクリーニングのプロシージャのためのシャットダウンのための必要性なしで連続的なプロセスを24時間毎に可能にします。厚さと組成を高精度に制御し、優れたフィルムを高濃度に堆積させることができます。また、優れた再現性、柔軟性、およびプロセス安定性を提供することにより、高度なプロセス制御機能を容易にします。BOC EDWARDS TPU 4は、低汚染率で大面積の均一な堆積を達成することができ、in-situ診断機能を統合しています。TPU 4の主な構成要素は、メインプロセスチャンバー、コントローラユニット、ユーザーインターフェイス、および専用のネットワークコンピュータです。主要なプロセス部屋はステンレス鋼から組み立てられる円筒形の部屋で、プロセス部屋および観覧の港への記入のために2つの溶接された水晶ドアを使用します。チャンバー内には、薄膜を堆積してエッチングするように設計されたさまざまなプロセスとコンポーネントがあります。これらのコンポーネントには、基板ホルダー、ホットフィラメントガン、基板バイアスユニット、イオン源、抽出電極、シールド電極、シャッターマシンが含まれます。ホットフィラメントガンは、薄膜を基板に堆積させるために使用される原子種と分子種の流れを作り出します。基板バイアスツールは、基板材料に電気バイアスを適用するために使用され、ホットフィラメントガンから来るエネルギー種とチャンバーに導入されたガス種との相互作用を可能にします。イオン源は、フィルムをエッチングするために使用できるエネルギーイオンのビームを作成するために使用されます。シャッターアセットは、チャンバーへのガスの流れを調節するために使用されますが、抽出電極とシールド電極は、イオンビームの制御を助けます。ユーザーインターフェイスは装置の容易で、有効な操作を促進するように設計されています。LCDディスプレイと、セットパラメータとプロセスシーケンスを入力するためのメニュー駆動コントロールパネルで構成されています。また、ユーザーが堆積プロセスを表示することができますグラフィカルディスプレイが含まれています。コントローラユニットは、ネットワークマシンに接続されている一連のマイクロプロセッサと周辺コントローラで構成されています。設備のすべてのコンポーネントを制御し、プロセスシーケンスを監視および表示するために使用されます。さらに、BOC EDWARDS TPU 4には、機械式インターロック、ドア安全スイッチ、内部干渉防止保護モデルなど、さまざまな安全機能が装備されています。また、有害な真空条件が発生した場合にユーザーに警告する高度な真空監視装置も備えています。TPU 4は、さまざまなシングルチャンバー用途に適した、手頃な価格で信頼性の高い高性能設備です。これは、伝統的な堆積とエッチング技術を上回ることができます。BOC EDWARDS TPU 4は、高度なプロセス制御機能と統合されたin-situ診断機能を備えており、薄膜成膜、イオンビームエッチング、および表面改質ニーズに対する効率的で安全かつ費用対効果の高いソリューションをユーザーに提供します。