中古 USHIO UMA-802-HC55RM #9392072 を販売中

USHIO UMA-802-HC55RM露光装置は、高精度シングルビームマスクアライナーです。フォトリソグラフィとナノインプリント技術のために設計されており、感光材料の高精度な配置とイメージングを提供します。このシステムには、コンパクトで空冷のUV光源、80mm真空プレート、および自動ビジョンアライメントユニットが含まれています。UV光源はメタルハライドアークランプを備えており、出力定格は250ワット、露光波長は350〜450ナノメートルです。その水晶反射器は、光の正確な焦点を保証し、その1500ワットの電源は、信頼性と一貫した性能を保証します。光源は信頼性が高く、長時間連続使用が可能です。UMA-802-HC55RMの真空板は高い構造であり、16マイクロメートルの円形の運動範囲を誇り、感光材料の優れた配置精度を保証します。プレートは表面の汚れの精度を維持するように設計されていますが、プレートの動きは差動駆動ネジによっても助けられます。真空プレートは、X軸とY軸の動きをより正確に整列させることもできます。USHIO UMA-802-HC55RMの自動ビジョンアライメントマシンは高精度で、感光材料をプリセットオーバーレイテンプレートに合わせて求めるようにプログラムすることができます。これにより、毎回正確で反復可能なプロセスが保証されます。アライメントツールにはオートフォーカス機能も搭載しており、ナノインプリントリソグラフィなどのアプリケーションでも利用できます。最後に、露出アセットUMA-802-HC55RM高度な光学パッケージを備えています。光学パッケージには、無色レンズ、ビームスプリッター、絞りが含まれています。この光学系は、収差の問題を効果的に排除し、波長の均一性と効率を可能にします。また、光学系はUV範囲での拡張モデルを備えており、高速な画像形成が可能です。全体的に、USHIO UMA-802-HC55RM露光装置は、フォトリソグラフィとナノインプリント技術に適した最先端の生産ユニットです。高精度のシングルビームマスクアライナー、強力なUV光源、高精度の真空プレート、高度な自動ビジョンアライメントシステム、および高度な光学パッケージにより、信頼性と一貫したパフォーマンスを提供します。UMA-802-HC55RMは信頼でき、精密な露出単位を要求する実験室のための優秀な選択です。