中古 USHIO UFX-2259B-AMB01 #9359375 を販売中

USHIO UFX-2259B-AMB01は、半導体産業に精密かつ正確なフォトリソグラフィープロセスを提供するために設計された万能露光装置です。各種基板の高信頼性パターンやイメージングに最適な機械であり、医療機器製造など多くの用途に適しています。露光システムは、露光範囲が広い高速スキャン機構を備えており、さまざまな製品を生産することができます。UFX-2259B-AMB01は、基板表面に均一な光の強度を与えるために調整可能な大きな照明源を備えており、再現性のある結果を得ることができます。また、画像処理中に材料を硬化させるために使用される紫外線光源も提供します。真空ユニットは、イメージングプロセス中にフラットベッド表面への適切な基板接着を保証し、高精細画像の結果を可能にします。密閉されたチャンバーはフラットベッドを収納し、イメージングプロセス中に基板がほこりや他の粒子から保護されることを保証します。マシンに提供される制御ソフトウェアは、露出設定とパラメータを完全に制御することができます。照明レベル、スキャン工程の速度、露出領域など、さまざまな設定をプログラムして、各基板に合わせた結果を提供できます。USHIO UFX-2259B-AMB01には精密アライメントメカニズムも含まれており、必要なターゲットが基板上に完全に配置されていることを保証します。UFX-2259B-AMB01はフォトリソグラフィのプロセスを効率的に制御し、医療からエレクトロニクス業界まで、それぞれの特定のアプリケーションにカスタマイズされた製品を可能にします。そのコンパクトなデザインと調整可能な照明ソースは、正確で信頼性の高い画像処理結果を必要とするさまざまなアプリケーションに最適です。このツールはプロフェッショナル向けに設計されていますが、ユーザーフレンドリーなインターフェースにより、教育機関での使用に最適です。これにより、学生にマイクロテクノロジーやフォトリソグラフィなどの概念を導入するのに特に適しています。全体として、USHIO UFX-2259B-AMB01露光アセットは、ユーザーに効果的で効率的なイメージングソリューションを提供し、さまざまな基板およびアプリケーションに比類のない画像結果を提供します。調節可能な照明源、精密アライメントメカニズム、および囲まれた部屋はそれをいろいろな企業および教育機関のための適した選択にします。