中古 SEIWA Alpha 3000 #9302564 を販売中

SEIWA Alpha 3000は、精密加工、リソグラフィ、フォトレジスト加工用に設計された先進露光装置です。信頼できる再現性の高い精度で、優れた性能と高い歩留まり結果を提供します。長さ1m、幅400mmのステージを備え、最大300mmサイズの基板に対応できるため、様々な実験に適しています。また、0。1sから1。1s（ナノ秒）、35mW/cm？の高いピーク照度まで、幅広い露光時間をユーザーに提供しています。Alpha 3000は、すべてのコンポーネントに簡単にアクセスできる人間工学的設計を採用しています。合理化されたモジュラーユニットと、簡単に交換、交換、またはクリーニングとメンテナンスのために取り外すことができるさまざまなコンポーネントが含まれています。また、さまざまな入出力ポートと信頼性の高い電源を提供し、ユーザーに効率的かつ効率的な経験を提供します。SEIWA Alpha 3000は独自のビームスキャニングマシンを採用し、均等に分散したエネルギーでスムーズな画像解像度を実現しています。このツールは、2つの同期八角形スキャナで構成されています。それに加えて、ユーザーが露光時間と強度の量を制御することができる調整可能なスリットシャッターアセットが装備されています。また、露光時間、波長、強度を監視して正確な結果を得るデジタルフィードバックモデルも備えています。安全性の観点から、Alpha 3000は、粒子侵入に対するより大きな保護のために密封された金属ハウジングで設計されています。また、最適化された紫外スペクトルを可能にする統合フィルター装置が装備されています。結果の質を確保するために、システムはまた、4点温度制御とリアルタイム損傷検出ユニットを備えています。これは、ユーザーに結果の完全な自信と信頼性を提供します。信頼できる精度、包括的な安全機能、ユーザーフレンドリーな設計により、精密加工およびフォトレジスト加工に最適です。ラピッドプロトタイピング、半導体製造、材料研究など、Alpha 3000はあらゆる用途に最適です。