中古 ORC HMW680GW #9384301 を販売中

ORC HMW680GW露光装置は、フォトマスクメーカーに利用可能な最先端のツールの1つです。非常に特殊なエキシマレーザー技術を使用して、フォトマスク上の非常に細かいパターンを作成します。コンパクトなサイズ、高い生産性、優れた結果により、フォトマスクメーカーや研究室にとって貴重なツールです。高精度の光学マスクステージと組み合わされた高度なエキシマレーザー光源を搭載しています。レーザー光源はキセノンガスを利用し、露出波長は通常248nmです。さらに、脈拍の繰返し率は5kHzから25kHzまで調節可能です。露出深さの範囲を50nmから1um以上に変えることはユーザー調節可能です。露光ユニットには、レーザー干渉計を使用してレーザー光線をフォトマスクに素早く正確に集中させる高度なオートフォーカス装置も搭載しています。オートフォーカスツールは、マスク露出の精度と安定性をさらに確保するために、xyステージの位置決めのための高精度ステージと結合されています。ORC HMW 680GWは、優れたレーザー駆動露光機能に加えて、フォトリソグラフィやサイジェフロによる光感受性材料の露出もサポートしています。これにより、最新のアークランプなどの一般的な光源や、深紫外線LEDなどの特殊光源を利用することができます。露出アセットHMW680GW、露出パラメータに対する高度な制御と精度を提供します。これにより、非常に薄いウェーハなどの困難な基板でも、必要に応じて露出パラメータを微調整できます。さらに、このモデルには、より効率的で、より速く、便利なワークフローを可能にするさまざまな自動化機能も含まれています。全体として、HMW 680GW露光装置は、フォトマスクの高品質なパターンを生成するための強力なツールをフォトマスクメーカーと研究室に提供します。オートフォーカスやユーザー調整可能なレーザーパルスレートなどの汎用性の高い性能とハイエンドの機能により、非常に細かいパターンのフォトマスクを効率的に生産できます。このシステムは、研究開発だけでなく、生産ラボにも適しています。