中古 NITTO UM 810 #9150884 を販売中

NITTO UM-810露光装置は、集積回路の製造に使用される最先端のフォトリソグラフィーツールです。このシステムは、193nmの波長を持つアルゴンフッ化物（ArF）エキシマレーザーを使用して、半導体基板に非常に小さなパターンと特徴を生成します。ユニットは、高度な露光光学とマニピュレータロボットの2つのコンポーネントで構成されています。先進的な光学系は、15mJ/pulseを供給するために光学的に増幅されたエネルギー源（エキシマレーザー）で構成されています。これは精密マスクアライナーと光学画像投影機と組み合わされ、わずか0。25 μ mの線幅のウェーハ上に非常に小さな特徴を生み出します。この光学系には、ピクセルレベルのアライメント精度とオーバーレイを制御するための「ピンセット」が含まれています。これにより、チップメーカーはマスクパターンをウェーハに正確に投影するだけでなく、マスクのずれやその他の異常を除去することができます。ロボットはウェーハの位置決めとアライメントを行い、精度を向上させるための力制御アライメントツールを備えています。ロボットは完全に自律的な4軸アセットで、0。5 μ mの位置精度で移動でき、基板をマスクに正確にリターゲットまたは整列させることができます。ロボットの高解像度センサーは、アライメントエラーを検出して修正すると同時に、エッジ配置エラーを1 μ m以上に低減します。これらの機能とコンポーネントにより、UM-810 Exposure Modelは集積回路製造のための効率的で正確なツールとなります。この装置は、193nmの波長で動作するため、半導体材料に非常に小さな特徴を作り出すことができます。また、ロボットの非常に精密で厳密な許容制御により、優れた信頼性と精度を提供します。このシステムにより、チップメーカーは、複雑で非常に小さなパターンを作成するための基礎であるマスクパターンのオーバーレイを簡単に調整でき、ピクセルレベルでアライメント精度とオーバーレイを制御できる「ピンセット」が可能になります。これにより、歩留まりとコスト効率が向上し、NITTO UM-810 Exposure Unitは現代の集積回路製造プロセスにおいて貴重なツールとなります。